半導體複合薄膜沉積系統是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2017年1月1日啟用。
基本介紹
- 中文名:半導體複合薄膜沉積系統
- 產地:中國
- 學科領域:材料科學
- 啟用日期:2017年1月1日
- 所屬類別:分析儀器 > 電子光學儀器
技術指標,主要功能,
技術指標
生長室尺寸600*450mm筒形結構預處理室尺寸300*900mm,極限真空8*10-8Pa,系統漏率小於10-8Pa.L/s。
主要功能
無機功能薄膜沉積。
半導體複合薄膜沉積系統是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2017年1月1日啟用。