《半導體薄膜技術與物理（第二版）》是2017年浙江大學出版社出版的圖書。
基本介紹
- 中文名：半導體薄膜技術與物理（第二版）
- 出版時間：2017年8月1日
- 出版社：浙江大學出版社
- ISBN：9787308139106
內容簡介,圖書目錄,
內容簡介
本書全面系統地介紹了半導體薄膜的各種製備技術及其相關的物理基礎。全書共分十章。第一章概述了真空技術，第二至第八章分別介紹了蒸發、濺射、化學氣相沉積、脈衝雷射沉積、分子束外延、液相外延、濕化學合成等各種半導體薄膜的沉積技術，第九章介紹了半導體超晶格、量子阱的基本概念和理論，第十章介紹了典型薄膜半導體器件的製備技術。
本書文字敘述上力求做到深入淺出，內容上深度和寬度相結合，理論和實踐相結合，以半導體薄膜技術為重點，結合半導體材料和器件的性能介紹，同時還介紹了半導體薄膜技術與物理領域的新概念、新進展、新成果和新技術。本書具有內容翔實、概念清楚、圖文並茂的特點。
本書讀者對象廣泛，可作為高等院校材料、物理、電子、化學等學科的研究生或高年級本科生的半導體薄膜技術課程的教材，也可作為從事半導體材料、薄膜材料、光電器件等領域的科研人員、工程技術人員的參考書籍。
圖書目錄
第1章 真空技術
§1.1 真空的基本概念
1.1.1 真空的定義
1.1.2 真空度單位
1.1.3 真空區域劃分
§1.2 真空的獲得
§1.3 真空度測量
1.3.1 熱傳導真空計
1.3.2 熱陰極電離真空計
1.3.3 冷陰極電離真空計
§1.4 真空度對薄膜工藝的影響
參考文獻
第2章 蒸發技術
§2.1 發展歷史與簡介
§2.2 蒸發的種類
2.2.1 電阻熱蒸發
2.2.2 電子束蒸發
2.2.3 高頻感應蒸發
2.2.4 雷射束蒸發
2.2.5 反應蒸發
§2.3 蒸發的套用實例
2.3.1 Cu(In，Ga)Se2薄膜
2.3.2 ITO薄膜
參考文獻
第3章 濺射技術
§3.1 濺射基本原理
§3.2 濺射主要參數
3.2.1 濺射閾和濺射產額
3.2.2 濺射粒子的能量和速度
3.2.3 濺射速率和澱積速率
§3.3 濺射裝置及工藝
3.3.1 陰極濺射
3.3.2 三極濺射和四極濺射
3.3.3 射頻濺射
3.3.4 磁控濺射
3.3.5 反應濺射
§3.4 離子成膜技術
3.4.1 離子鍍成膜
3.4.2 離子束成膜
§3.5 濺射技術的套用
3.5.1 濺射生長過程
3.5.2 濺射生長ZnO薄膜的性能
參考文獻
第4章 化學氣相沉積
§4.1 概 述
§4.2 矽化學氣相沉積
4.2.1 CVD反應類型
4.2.2 CVD熱力學分析
4.2.3 CVD動力學分析
4.2.4 不同矽源的外延生長
4.2.5 成核
4.2.6 摻雜
4.2.7 外延層質量
4.2.8 生長工藝
§4.3 CVD技術的種類
4.3.1 常壓CVD
4.3.2 低壓CVD
4.3.3 超高真空CVD
§4.4 能量增強CVD技術
4.4.1 等離子增強CVD
4.4.2 光增強CVD
§4.5 鹵素輸運法
4.5.1 氯化物法
4.5.2 氫化物法
§4.6 MOCVD技術
4.6.1 MOCVD簡介
4.6.2 MOCVD生長GaAs
4.6.3 MOCVD生長GaN
4.6.4 MOCVD生長ZnO
§4.7 特色CVD技術
4.7.1 選擇外延CVD技術
4.7.2 原子層外延
參考文獻
第5章 脈衝雷射沉積
§5.1 脈衝雷射沉積概述
§5.2 PLD的基本原理
5.2.1 雷射與靶的相互作用
5.2.2 燒蝕物的傳輸
5.2.3 燒蝕粒子在襯底上的沉積
§5.3 顆粒物的抑制
§5.4 PLD在Ⅱ一Ⅵ族化合物薄膜中的套用
5.4.1 ZnO薄膜的PLD生長
5.4.2 其他Ⅱ一Ⅵ族化合物的PLD生長
參考文獻
第6章 分子束外延
§6.1 引 言
§6.2 分子柬外延的原理和特點
§6.3 外延生長設備
§6.4 分子束外延生長矽
6.4.1 表面製備
6.4.2 外延生長
6.4.3 摻雜
6.4.4 外延膜的質量診斷
§6.5 分子束外延生長Ⅲ一V族化合物半導體材料和結構
6.5.1 MBE生長GaAs
6.5.2 MBE生長InAs／GaAs
6.5.3 MBE生長GaN
§6.6 分子束外延生長Ⅱ一Ⅵ族化合物半導體材
6.6.1 HgCdTe材料
6.6.2 CdTe／Si的外延生長
6.6.3 HgCdTe／Si的外延生長
6.6.4 ZnSe、ZnTe
6.6.5 ZnO薄膜
§6.7 分子束外延生長其他半導體材料和結構
6.7.1 SiC材料
6.7.2 生長小尺寸Ge／Si量子點
6.7.3 生長有機半導體薄膜
參考文獻
第7章 液相外延
§7.1 液相外延生長的原理
7.1.1 液相外延基本概況
7.1.2 矽液相外延生長的原理
§7.2 液相外延生長方法和設備
§7.3 液相外延生長的特點
§7.4 液相外延的套用實例
7.4.1 矽材料
7.4.2 Ⅲ一V族化合物半導體材料
7.4.3 碲鎘汞材料
7.4.4 SiC材料
參考文獻
第8章 濕化學製備方法
§8.1 溶膠一凝膠技術
8.1.1 Sol—Gel的生長機制
8.1.2 Sol—Gel的工藝過程
8.1.3 Sol一Gel合成TiO2薄膜
8.1.4 Sol—Gel的優點和缺點
§8.2 噴霧熱分解技術
8.2.1 噴霧熱分解的種類
8.2.2 噴霧熱分解的生長過程
8.2.3 噴霧熱分解的套用介紹
8.2.4 噴霧熱分解製備ZnO薄膜
§8.3 液相電沉積技術
8.3.1 電沉積簡介
8.3.2 電沉積製備類金剛石薄膜
參考文獻
第9章 半導體超晶格和量子阱
§9.1 引 言
§9.2 半導體超晶格、量子阱的概念和分類
9.2.1 組分超晶格
9.2.2 摻雜超晶格
9.2.3 應變超晶格
9.2.4 調製摻雜超晶格
§9.3 半導體超晶格、量子阱的量子特性
9.3.1 量子約束效應
9.3.2 量子隧穿和超晶格微帶效應
9.3.3 共振隧穿效應
§9.4 半導體超晶格、量子阱的結構和器件套用介紹
9.4.1 GaAs／A1xGa1-xAs體系
9.4.2 ZnSe基異質結、量子阱結構
參考文獻
第10章 半導體器件製備技術
§10.1 襯底材料的清洗
§10.2 發光二極體
10.2.1 GaN基LED
10.2.2 ZnO基LED
10.2.3 白光LED
§10.3 薄膜電晶體
10.3.1 薄膜電晶體的工作原理
10.3.2 非晶矽薄膜電晶體
10.3.3 多晶矽薄膜電晶體
10.3.4 有機薄膜電晶體
10.3.5 ZnO薄膜電晶體
§10.4 光電探測器
10.4.1 光電導探測器
8.2.3 噴霧熱分解的套用介紹
8.2.4 噴霧熱分解製備ZnO薄膜
§8.3 液相電沉積技術
8.3.1 電沉積簡介
8.3.2 電沉積製備類金剛石薄膜
參考文獻
第9章 半導體超晶格和量子阱
§9.1 引 言
§9.2 半導體超晶格、量子阱的概念和分類
9.2.1 組分超晶格
9.2.2 摻雜超晶格
9.2.3 應變超晶格
9.2.4 調製摻雜超晶格
§9.3 半導體超晶格、量子阱的量子特性
9.3.1 量子約束效應
9.3.2 量子隧穿和超晶格微帶效應
9.3.3 共振隧穿效應
§9.4 半導體超晶格、量子阱的結構和器件套用介紹
9.4.1 GaAs／AlxGa1-xAs體系
9.4.2 ZnSe基異質結、量子阱結構
參考文獻
第10章 半導體器件製備技術
§10.1 襯底材料的清洗
§10.2 發光二極體
10.2.1 GaN基LED
10.2.2 ZnO基LED
10.2.3 白光LED
§10.3 薄膜電晶體
10.3.1 薄膜電晶體的工作原理
10.3.2 非晶矽薄膜電晶體
10.3.3 多晶矽薄膜電晶體
10.3.4 有機薄膜電晶體
10.3.5 ZnO薄膜電晶體
§10.4 光電探測器
10.4.1 光電導探測器
10.4.2 肖特基型光電探測器
10.4.3 p—n結型光電探測器
10.4.4 改進型光電二極體
參考文獻
