化學吸附的量子力學繪景

內容簡介

本書著重從微觀角度——即從量子力學的角度，較完整地介紹了化學吸附的全過程。從化學吸附的基本概念入手，介紹了化學吸附的各種巨觀物理量及常見的實驗手段和實驗過程；以量子力學為理論基礎，重點描述了不同襯底的表面態密度和局域態密度，並對其化學吸附的性質進行了有效分析；針對化學吸附模型的建立，給出各種數學處理的方法和計算機模擬的手段，並將這些模型和手段直接套用到各種實際的化學吸附系統之中，使理論形式更為具體，同時也可加深對理論的理解。從結構上，本書力求做到由淺入深、由表及里、由現象到本質，逐層深入地對化學吸附內容進行闡述，以符合廣大讀者的認知規律。

圖書目錄

第一章化學吸附的巨觀物理量及實驗過程

1·1 化學吸附的基本概念

1·1·1 吸附的種類及其區別

1·1·2 描述吸附的物理量

1·1·3 平衡吸附規律的描述

1·1·4 化學吸附的表面結構

1·2 表面分析概述

1·2·1 如何獲得表面信息

1·2·2 表面探針的選擇

1·2·3 相關的測量儀器

1·3 電子衍射及套用

1·3·1 引言

1·3·2 由LEED圖像直接推斷表面的二維結構

1·3·3 LEED實驗裝置

1·3·4 清潔表面和有序化學吸附層結構的部分測量結果

1·4 俄歇電子譜(AES)

1·4·1 俄歇電子發射的機理

1·4·2 俄歇電子譜儀的結構

1·4·3 的套用

1·5 光電子譜(PES)

1·5·1 光電子譜(PES)的發展和分類

1·5·2 光電子譜(PES)的基本原理

1·5·3 光電子譜(PES)的實驗裝置

1·5·4 X射線光電子譜(XPB)的套用

1·5·5 光電子譜(PES)的實驗結果

1·6 場發射顯微鏡(FEM)和場離子顯微鏡(FIM)

1·6·1 場致電子發射的基本原理

1·6·2 場發射顯微鏡(FEM)

1·6·3 場發射顯微鏡(FEM)的套用

1·6·4 場離子顯微鏡(FIM)

1·7 掃描隧道顯微鏡(STM)

1·7·1 STM工作原理

1·7·2 STM儀器裝置

1·7·3 STM特點與測量舉例

1·8 其他能譜技術

參考文獻

第二章化學吸附的量子理論基礎

2·1 表面態理論概述

2·2 理想簡單金屬表面電子結構

2·2·1 金屬體內的電子狀態

2·2·2 有效體態密度、表面態密度、局域態密度和積分態密度

2·2·3 金屬表面電子態——準自由電子氣模型

2·3 理想半導體的表面態

2·3·1 NFE模型中的電子狀態

2·3·2 晶體中的實數k能帶和表面區的複數k能帶

2·3·3 基於NFE模型的窄禁帶半導體表面態的形成

化學吸附的量子力學繪景

基本介紹

內容簡介

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