《前沿技術領域專利競爭格局與趨勢(II)》是國家知識產權局智慧財產權發展研究中心組織編寫的圖書。
基本介紹
- 中文名：前沿技術領域專利競爭格局與趨勢(II)
- 作者：國家知識產權局智慧財產權發展研究中心
- 出版社：智慧財產權出版社
- ISBN：9787513041249
[內容簡介]
本書是國家知識產權局發展研究中心精選2014年度十個重點領域的重大專利技術報告彙編而成。基於產業或行業整體的巨觀視角，側重專利數據的採集和梳理，對產業專利技術的現狀和趨勢進行深度解析，在此基礎上，提出預警機制與方案設計，對產業政策的制定以及企業進行專利布局和研發具有指導意義。本書介紹了3D列印快速成型、頁岩氣勘探開發、移動支付關鍵技術、光通信關鍵技術、抗抑鬱化學藥和中藥、有機矽、微納機電製造、城市道路智慧型交通系統、超硬材料、粉煤灰鋁鎵資源提取11項前沿領域技術，供各產業企業參考。
[作者簡介]
本書由國家知識產權局智慧財產權發展研究中心組織編寫：國家知識產權局智慧財產權發展研究中心是國家知識產權局的直屬機構，屬於自收自支的事業單位,成立於2001年5月。中心主要從事智慧財產權戰略、智慧財產權相關法律和政策及實務研究與運作。希望通過研究與實踐，為政府有關部門制定和完善有關法律和政策提供參考，為國內有關行業、產業和企業掌握國內外智慧財產權法律與市場競爭狀況、提升企業核心競爭力提供支持。
[讀者對象]
政府機關、相關行業或產業專利政策制定人員，企業創新與管理人員，普通公眾。
