前沿技術領域專利競爭格局與趨勢(I)
基本介紹
- 中文名：前沿技術領域專利競爭格局與趨勢(I)
- 編寫單位：國家知識產權局智慧財產權發展研究中心
[內容簡介]
本報告集是局發展與研究中心當年專利分析與預警課題研究成果的簡編版，根據序言出版說明綜述第1章 3D列印技術領域第2章 頁岩氣勘探開發領域第3章 移動支付領域第4章 光通信關鍵技術領域第5章 抗抑鬱藥（西藥、中藥）領域第6章 高性能有機矽領域第7章 微納機電製造領域第8章 城市道路智慧型交通領域第9章 超硬材料領域第10章 粉煤灰鋁鎵資源領域後記
[作者簡介]
本書由國家知識產權局智慧財產權發展研究中心組織編寫：國家知識產權局智慧財產權發展研究中心是國家知識產權局的直屬機構，屬於自收自支的事業單位,成立於2001年5月。中心主要從事智慧財產權戰略、智慧財產權相關法律和政策及實務研究與運作。希望通過研究與實踐，為政府有關部門制定和完善有關法律和政策提供參考，為國內有關行業、產業和企業掌握國內外智慧財產權法律與市場競爭狀況、提升企業核心競爭力提供支持。
[讀者對象]
政府機關、相關行業或產業專利政策制定人員，企業創新與管理人員。
