基本介紹
- 中文名:刻蝕劑
- 英文名:etching agent
- 別稱:腐蝕劑
刻蝕劑}trh}nt清除基片上無用的金屬化塗層的化學 活J葉溶液。
刻蝕劑}trh}nt清除基片上無用的金屬化塗層的化學 活J葉溶液。 ...... 腐蝕劑 刻蝕劑}trh}nt清除基片上無用的金屬化塗層的化學 活J葉溶液。[1] 參考...
把未被抗蝕劑掩蔽的薄膜層除去,從而在薄膜上得到與抗蝕劑膜上完全相同圖形的工藝。在積體電路製造過程中,經過掩模套準、曝光和顯影,在抗蝕劑膜上複印出所需的...
深電漿刻蝕,也稱大深寬比刻蝕(High Aspect Ratio Etching,HARE),一般是選用Si作為刻蝕微結構的加工對象,它有別於VLSI 中的矽刻蝕,因此又稱為先進矽刻蝕(...
反應性離子刻蝕 (reaction ionetching;RIE)是製作半導體積體電路的蝕刻工藝之一。在除去不需要的積體電路板上的保護膜時,利用反應性氣體的離子束,切斷保護膜物質的...
刻蝕速率是指在刻蝕過程中去除矽片表面材料的速度,如圖1所示,通常用Å /min表示。...
溶劑刻蝕可用的刻蝕劑的例子 溶劑蝕刻X射線顯微分析樣品製備 編輯 X射線只微分析樣品有特殊要求,即不能包含水及其他液體,在電子束作用下樣品,的元素不應揮發,樣品...
光解離型樹脂prIUICH}ISSC}'icit}ve resin一般稱為光降解樹脂。主要在積體電路製備和光學製版印刷中作為正性光致刻蝕劑。...
五氯一氟乙烷主要於食品工業中用作致冷劑、溶膠噴射劑、絕緣氣、刻蝕劑,吸入高濃度本品,有可能引起心律不齊,昏迷甚至死亡。接觸本品液體可致凍傷。...
一氯三氟甲烷,分子式:CClF3,無色、無臭氣體,主要用途:是一種超低溫的致冷劑,也用作泡沫塑膠發泡劑、半導體裝置、等離子刻蝕劑。...