《利用變參量位相元件實現干涉光場的多參量動態調控》是依託蘇州大學，由葉燕擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：利用變參量位相元件實現干涉光場的多參量動態調控
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：葉燕
- 依託單位：蘇州大學
項目摘要,結題摘要,
項目摘要
目前，干涉光刻雖可製備大面積納米結構，但加工結構單一，無法滿足變參量納米結構加工需求。納米結構多參量實時調控，仍是納米加工領域面臨的重大難題。本項目擬通過光學方法實現納米乾涉光場的多參量動態調控，為納米結構功能材料的線上製備提供基礎。通過在傅立葉變換光路中設定由不同子位相元件組成的變參量位相元件，研究傅立葉變換光路中分立的子位相元件以不同的方式組合對干涉光場複合調控的機理，重點研究子位相元件間相對位置變化對干涉光場結構參數的影響規律。在此基礎上，分析形成變參量納米結構的子光場及其組合方式，反演實現子位相元件的設計和組合，從而實現干涉光場的多參量實時調控，為變參量納米結構的線上製備提供基礎；同時，為採用光學拼版的方法取代傳統拼版工藝，簡化大幅面變參量納米結構的製備工藝提供基礎。
結題摘要
本項目針對干涉光刻製備結構單一的缺點，提出了實現微納干涉光場動態調控的光學系統。完善和發展了位相調製的傅立葉變換光學系統中入射光場與出射光場之間的演化規律，揭示了位相元件調製的傅立葉變換光學系統的等效工作原理，總結了位相元件相對運動對出射光場參量的調控規律，並分析了其對出射光場有效干涉面積的影響因素；採用了位相元件組分段調控入射光，分析了子位相元件不同的組合形式對干涉光場的複合調控原理，闡明了子位相元件相對位置變化對干涉光場及其分布區域的影響。在此基礎上，針對變參量超表面器件，提出了位相元件的反演設計方法，實現了干涉光場多參量的實時調控。實驗上，將位相調製的傅立葉變換光學系統與雷射擴束準直、雙遠心光路及微縮物鏡相結合，搭建了干涉光刻系統，利用反演設計製備的位相元件，探索了該干涉光刻系統在像素化超表面吸收器件、像素化超表面彩色顯示、像素化超表面透鏡等大幅面像素化超表面功能器件方面的套用，為大幅面變參量微納結構的線上製備提供了理論工藝基礎。
