分步重複光刻_中文百科全書

分步重複光刻

分步重複光刻，為適應超大規模積體電路需要有高解析度、高套刻精度和大直徑晶片加工的要求而發展起來的光刻技術。主要特點是：（1）採用像面分割原理，以覆蓋最大晶片面積的單次曝光區作為最小成像單元，從而為獲得高解析度的光學系統創造條件；（2）採用精密的定位控制技術和自動對準技術進行重複曝光，以組合方式實現大面積圖像傳遞，從而滿足晶片直徑不斷增大的實際要求；（3）縮短圖像傳遞鏈，減少工藝上造成的缺陷和誤差，可獲得很高的成品率；（4）採用精密自動調焦技術，避免高溫工藝引起的晶片變形對成像質量的影響；（5）採用原版自動選擇機構，不但有利於成品率的提高，而且成為能靈活生產多電路組合的常規曝光系統。