分布反饋雷射器

分布反饋雷射器是在雷射器有源波導區界面附近製作周期光柵來提供反饋，這是利用光波導折射率的周期變化來實現的。其特點是把光柵直接做在有源層與限制界面上。這些雷射器不僅具有極好的性能和便於集成化,經改進還易於實現穩定的單模運轉。

基本介紹

• 中文名：分布反饋雷射器
• 簡介：單縱模工作的最有效的方法之一
• 詳細介紹：對光柵周期進行適當啁啾
• 套用：波長可調諧半導體雷射器

儀器簡介

實現動態，就是在半導體雷射器內部建立一個布拉格光柵，靠光柵的反饋來實現縱模選擇。這種結構還能夠在更寬的工作溫度和工作電流範圍內抑制模式跳變，實現動態單模。

分布反饋半導體雷射器（DFB－LD）與分布布拉格反射器半導體雷射器（DBR－LD）是由內含布拉格光柵來實現光的反饋的。兩者的結構如圖所示。由圖可見，DBR－LD中，光柵區在腔體兩側（或一側），只用來做反射器，增益區內沒有光柵，它是與反射器分開的。而在DFB－LD中，光柵分布在整個諧振腔中，所以稱為分布反饋。因為採用了內部布拉格光柵選擇波長，所以DFB－LD和DBR－LD的諧振腔損耗有明顯的波長依存性，這一點決定了它們在單色性和穩定性方面優於一般的F－P腔雷射器。

作用效果

DFB－LD的光柵是完全均勻對稱的，使得其發光出現了兩個主模同時振盪的現象。為了將輻射功率集中在同一主模上，同時使各振盪模式的閾值增益差增大，可以採用如下方法：

（1）在均勻分布的周期折射率光柵區引進一個λ/4相移；

（2）將解理面之一增透或另一面增反，造成非對稱的腔面反射率；

（3）在有源區中靠近腔面的一小段區域上形成無分布反饋光柵的透明區；

（4。

引進λ/4相移和不對稱端面反射率結構兩種方法較可行且有效。雖然λ/4相移方法在工藝上有一定難度，但是能獲得性能很好的動態單縱模。

是建立在DBF－LD和DBR－LD的基礎上發展起來的，在波分復用（WDM）、頻分復用（FDM）通信系統的方面套用廣泛，還可以用做小的振盪光源和波長轉換器。進一步的研究已經實現了基於DFB－LD和DBR－LD的高速雷射器、窄線寬雷射器和光柵面發射雷射器。