冷凍蝕刻法

冷凍蝕刻法是指將標本置於-100˚C的乾冰或-196˚C的液氮中進行冰凍，然後用冷刀將標本斷開，升溫後冰在真空條件下迅即升華，暴露出斷面結構。蝕刻後，向斷面以45度角噴塗一層蒸汽鉑，再以90度角噴塗一層碳，加強反差和強度。然後用次氯酸鈉溶液消化樣品，把碳和鉑的膜剝下來，此膜即為復膜。

基本介紹

• 中文名：冷凍蝕刻法
• 性質：物理術語

復膜顯示出了標本蝕刻面的形態，在電鏡下得到的影像即代表標本中細胞斷裂面處的結構。電鏡是使用電子來展示物件的內部或表面的顯微鏡。高速的電子的波長比可見光的波長短波粒二象性，而顯微鏡的解析度受其使用的波長的限制，因此電子顯微鏡的解析度（約0.2納米）遠高於光學顯微鏡的解析度（約200納米）。