全譜電漿發生光譜儀是一種用於農學、化學工程、水利工程、環境科學技術及資源科學技術領域的分析儀器，於2013年10月14日啟用。
基本介紹
- 中文名：全譜電漿發生光譜儀
- 產地：美國
- 學科領域：農學、化學工程、水利工程、環境科學技術及資源科學技術
- 啟用日期：2013年10月14日
- 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器 > 電子能譜儀
技術指標,主要功能,
技術指標
ICP精密度： 無基體，濃度在檢測限以上100倍時，RSD優於1%，有時可低於0.5%；有基體，濃度在檢測限以上100倍時， RSD優於2%，有時可達4%視基體特性和分析元素而在較大範圍內變化。 ICP線性範圍： 檢測器的線性範圍可達6-8個數量級；ICP光源的線性範圍可達4-5個數量級；線性範圍的大小與元素和分析譜線有關。
主要功能
主要功能 能快速地同時進行多元素分析測定,達73種元素; 測定靈敏度高，包括易形成難熔氧化物的元素,檢出限可達ppb；基體效應較低，較易建立分析方法；標準曲線具有較寬的線性動態範圍（105-106數量級）。 ICP 檢測限： 0.0x-0.xppb Be，Mg，Ca，Sr，Ba，Cu，Zn 0.x-x.0 ppb Ag，Cd，Co，Cr，Fe，V x.0-1x ppb Al，As，K，Na，Ni，Pb，Sb，Se，Tl，Ti，Zr,，Sc，Y，La，Eu，Dy，Ho，Er，Yb，Lu，Na，Pd。
