全自動反應離子束刻蝕機

全自動反應離子束刻蝕機是一種用於物理學、材料科學、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2014年10月27日啟用。

基本介紹

• 中文名：全自動反應離子束刻蝕機
• 產地：中國
• 學科領域：物理學、材料科學、電子與通信技術
• 啟用日期：2014年10月27日
• 所屬類別：工藝試驗儀器

技術指標

1. 刻蝕室真空度極限：≤9×10-5Pa 2. 刻蝕材料：各種金屬薄膜、硬質薄膜等 3. 刻蝕速率：≥100 - 2000À/min (與刻蝕材料和工藝有關) 4. 離子源： 口徑 12cm射頻離子源。 5. Ar+離子能量範圍：100 - 1000eV 6. 離子束功率密度：1w/cm2 7. 離子束流密度：  1mA/cm2 8. 離子束有效直徑：≥75mm 9. 刻蝕工作檯（最大刻蝕面積）：15cm 10. 工作檯旋轉方式：自轉 0 - 30rpm。 11. 刻蝕角度：可調節，傾角調整角度 0 - 90°。

主要功能

可實現對金屬膜、化合物膜、硬質膜等各種薄膜材料進行高性能幹法刻蝕。