全內反射光共聚焦顯微成像系統是一種用於化學、生物學領域的分析儀器，於2013年1月1日啟用。
基本介紹
- 中文名：全內反射光共聚焦顯微成像系統
- 產地：日本
- 學科領域：化學、生物學
- 啟用日期：2013年1月1日
- 所屬類別：分析儀器 > 顯微鏡及圖象分析儀器 > 雷射共焦顯微鏡
技術指標,主要功能,
技術指標
1、IX型掃描單元適配器和電動螢光裝置, 內置雷射回饋系統保證長期雷射功率恆定。2、半導體405nm雷射器（50mW） 3、透射光探測器, 內含透射光檢測PMT、透射光光源、電動光閘及電動光路系統4、自動倒置顯微鏡機架, 包括電動Z軸, 電動物鏡轉換器, 電動光路等, 透鏡採用防塵AW多層鍍膜玻璃, 內置中間變倍器, 可以提高系統放大倍率（1.6X）, 左側配有原初光路, 可以直接連線CCD等設5、介於汞燈和FV10-SUBX, SUIX或SUWI之間的螢光照明專用冷光纖6、螢光激發塊（長通紫外激髮長通）7、10倍萬能平場超級復消色差物鏡8、用於IX2 DIC的偏光鏡組塊。
主要功能
雷射共聚焦掃描顯微鏡既可以用於觀察細胞形態，也可以用於細胞內生化成分的定量分析、光密度統計以及細胞形態的測量, 配合焦點穩定系統可以實現長時間活細胞動態觀察。
