《光纖通信用光電子器件製作工藝基礎》是2005年2月北京郵電大學出版社出版的圖書，作者是黃章勇。
基本介紹
- 書名：光纖通信用光電子器件製作工藝基礎
- 作者：黃章勇
- ISBN：9787563509652
- 頁數：306
- 定價：34.0
- 出版社：北京郵電大學出版社
- 出版時間：2005-2
- 裝幀：平裝
內容簡介,目錄,
內容簡介
本書較全面地介紹了光纖通信用光電子器件和組件的製作工藝（包括工藝理論基礎和可供參考的工藝數據）。它從雷射二極體、光探測器、光調製器和半導體光放大器等主要光電子器件的結構入手，論述為實現這些結構所必須的主要製作工藝技術，重點介紹了Si基和Ⅲ-V族化合物基光電子器件的材料製備（包括各種外延生長技術）、光刻和腐蝕、摻雜、介質膜和金屬膜製備、器件和組件的組裝和封裝等工藝技術。
本書是編著者多年工作經驗之積累，也展示製作工藝中的最新技術，是一部光纖通信用光電子器件較為全面的製作工藝類技術書。該書可供從事光纖通信用光電子器件的設計、研究、製作人員的使用和參考，也可供大專院校光通信、光電子技術專業師生使用和參考。
目錄
第1章 器件與工藝技術物理基礎
1.1 能帶概念
1.2 本徵半導體與態密度
1.3 施主與受主
1.4 雜質電離
1.5 載流子的運動
1.6 p-n結
1.7 p-n結擊穿
1.8 異質結
第2章 光電子器件的基本結構及其關鍵製作工藝
2.1 雷射二級管的基本結構和製作
2.2 光電探測器的結構和製作
2.3 半導體放大器的結構和製作
2.4 光調製器的結構與製作
2.5 半導體光開關的結構和製作
2.6 集成光電子器件的結構和製作
第3章 光電子器件的材料製備技術
3.1 基底片製備
3.2 光電子器件用Si基材料的製備
3.3 光電子器件用Ⅲ-V族化合物半導體材料和外延生長
3.4 Ⅲ-V族化合物的液相外延生長
3.5 Ⅲ-V族化合物的鹵化物輸運汽相外延生長
3.6 金屬有機化合物汽相澱積
3.7 分子束外延生長
3.8 化學束外延生長
3.9 原子層、分子層外延生長
3.10 Ⅲ-V族化合物低維半導體材料的製備技術
3.11 光子晶體薄膜有其製備
3.12 異質材料的晶片鍵合技術
3.13 光電子器件外延層質量檢測
第4章 光電子器件製作中的光刻和腐蝕
第5章 光電子器件的摻雜技術
第6章 光電子器件中的介質薄膜及其製備
第7章 光電子器件的電極金屬膜及其製備
第8章 光電子器件和組件的組裝和封裝
第9章 光電子器件在製作和使用中引入缺陷及其缺陷控制和檢測
附錄 英文縮寫詞
參考文獻
1.1 能帶概念
1.2 本徵半導體與態密度
1.3 施主與受主
1.4 雜質電離
1.5 載流子的運動
1.6 p-n結
1.7 p-n結擊穿
1.8 異質結
第2章 光電子器件的基本結構及其關鍵製作工藝
2.1 雷射二級管的基本結構和製作
2.2 光電探測器的結構和製作
2.3 半導體放大器的結構和製作
2.4 光調製器的結構與製作
2.5 半導體光開關的結構和製作
2.6 集成光電子器件的結構和製作
第3章 光電子器件的材料製備技術
3.1 基底片製備
3.2 光電子器件用Si基材料的製備
3.3 光電子器件用Ⅲ-V族化合物半導體材料和外延生長
3.4 Ⅲ-V族化合物的液相外延生長
3.5 Ⅲ-V族化合物的鹵化物輸運汽相外延生長
3.6 金屬有機化合物汽相澱積
3.7 分子束外延生長
3.8 化學束外延生長
3.9 原子層、分子層外延生長
3.10 Ⅲ-V族化合物低維半導體材料的製備技術
3.11 光子晶體薄膜有其製備
3.12 異質材料的晶片鍵合技術
3.13 光電子器件外延層質量檢測
第4章 光電子器件製作中的光刻和腐蝕
第5章 光電子器件的摻雜技術
第6章 光電子器件中的介質薄膜及其製備
第7章 光電子器件的電極金屬膜及其製備
第8章 光電子器件和組件的組裝和封裝
第9章 光電子器件在製作和使用中引入缺陷及其缺陷控制和檢測
附錄 英文縮寫詞
參考文獻
