光敏商分子成像材料

光敏商分子成像材料photo-xnsitie polymeric imagemater翩是一類在光照下發生光敏聚合或光敏降解的高分。

利用曝光與未曝光部分的化學和物理性質的不同，再經進一步的加_上過程(定影、顯影)，在基體上得到與原圖相同的正像或負像的影像結構。是非銀鹽成像材料的一個重要<a，種二通常山一種或多種光活性化合物和高分子成膜材料構成.負像成像用光敏聚合及光敏交聯法，如自山基光聚合和光引發的陽離子聚合。正性成像則是使曝光部分有更好溶解度，光解產物容易被洗去。另一方法是光敏降解，採用的是丙烯酸醋類及其共聚物。已用於大規模積體電路的製作，光刻制板印刷、可讀寫式光碟等.