《光學非線性測量新技術：4f相位成像技術》是2016年12月國防工業出版社出版的圖書，作者是宋瑛林、石光。
基本介紹
- 中文名：光學非線性測量新技術：4f相位成像技術
- 作者：宋瑛林、石光
- 出版時間：2016年12月
- 出版社：國防工業出版社
- 頁數：203 頁
- ISBN： 9787118101775
- 開本：16 開
- 裝幀：平裝
內容簡介,書籍目錄,
內容簡介
4f相位成像技術是近年發展起來的測量光學非線性的新方法。本書講述了4f相位成像技術的基本原理、發展與套用，書中包含了作者近年在4f相位成像技術方面的主要研究成果。全書分為10章，主要介紹4f相位成像技術的改進及其在非線性光學功能材料研究領域的套用實例，內容包括4f相位成像技術的起源、基本原理以及套用；時間分辨4f相位成像技術與非線性折射動力學研究；可以實現單點、單脈衝測量的雙4f相位成像技術，以及反射4f相位成像技術等，此外還介紹了相位光闌的最佳化。本書可作為從事光通信、光信息處理、光感測、光電功能材料等方面工作的科技人員的參考書，也可作為高等學校光學專業、光電功能材料專業的研究生教材。
書籍目錄
第1章光學非線性測量技術
1.1光學非線性測量技術的分類
1.2光克爾門技術
1.3單光束Z掃描技術
參考文獻
第2章4f相位成像技術的基本原理與發展
2.1衍射系統的屏函式和相因子判斷法
2.2正弦光柵的衍射
2.4傅立葉變換
2.5空間濾波和信息處理
2.64f成像技術的發展
2.74f相位成像技術
2.84f相位成像技術基本理論
參考文獻
第3章4f相位成像技術中的相位濾波
3.1相位濾波
3.2相襯
3.3討論
3.3.1誤差分析
3.3.2負PO對稱性
3.3.3相襯的一階近似和實驗驗證
3.3.4測量靈敏度
3.3.5相襯振盪和單調測量區間
3.3.6高階非線性折射
3.3.7其他形狀的相位物體
參考文獻
第4章非線性吸收和非線性折射的測量
4.1光的吸收和色散
4.2群速
4.3光的散射
4.44f相位成像Z掃描技術
4.5非線性吸收和非線性折射的同時測量
4.6非線性吸收對非線性折射測量的影響
參考文獻
第5章時間分辨4f相位成像技術
5.1基於4f相位成像系統的時間分辨泵浦探測技術
5.2半導體ZnSe的超快束縛電子和自由載流子非線性動力學
5.3金屬酞菁化合物的激發態非線性動力學
5.4克爾分子液體的雙光束耦合非線性動力學
參考文獻
第6章雙4f相位成像技術
6.1串聯雙4f相位成像技術
6.2並聯雙4f相位成像技術
6.3ZnSe的非線性折射轉化研究
6.3.1實驗步驟與過程
6.3.2近紅外波段雙光子誘導ZnSe非線性折射率符號改變
6.3.3實驗結果
6.3.4理論分析
參考文獻
第7章樣品表面不均勻情況下的測量
7.1測量原理
7.2超薄膜CuPc(COONa)4/PDDA的光學非線性測量
7.2.1石英基片預處理
7.2.2自組裝薄膜的製備
7.2.3小角X射線衍射（XRD）
7.2.4Z掃描實驗
7.2.54f相位成像實驗
參考文獻
第8章厚介質3階光學非線性測量
參考文獻
第9章反射4f相位成像技術
9.1光在電介質表面的反射和折射
9.1.1菲涅耳反射折射公式
9.1.2反射率和透射率
9.1.3斯托克斯倒逆關係
9.1.4相位關係與半波損問題
9.1.5反射、折射時的偏振現象
9.1.6全反射與衰逝波
9.2反射4f相位成像技術理論模型
參考文獻
第10章相位光闌的最佳化與改進
10.1圓形相位光闌的最佳化
10.2正負圓形相位光闌
10.3正負環形相位光闌
參考文獻
