光場成像系統

光場成像系統是一種用於物理學、工程與技術科學基礎學科、自然科學相關工程與技術、計算機科學技術領域的物理性能測試儀器，於2015年12月9日啟用。

基本介紹

• 中文名：光場成像系統
• 產地：德國
• 學科領域：物理學、工程與技術科學基礎學科、自然科學相關工程與技術、計算機科學技術
• 啟用日期：2015年12月9日
• 所屬類別：物理性能測試儀器 > 光電測量儀器

技術指標

有效解析度：700萬；視頻幀數：6.2fps；光場解析度：2900萬；像素大小：5.5*5.5微米；內部曝光時間：17微秒~60秒;三維深度解析度：最高200；3D深度獲取；多視角立體顯示；4D光場獲取；47寸裸眼3D顯示。

主要功能

3D深度獲取；重聚焦；多視角立體顯示；4D光場獲取。