性能指標
衡量光偏轉器性能的技術指標有多個。便如偏轉速度、回響時間、偏轉角、解析度、偏轉線性、光損耗、光波陣面畸變、適用的光波段範圍、同步掃描精度以及抗干擾能力等。其中以解析度
N(即偏角
θ範圍內能分辨的光點數)為主要技術指標之一,它可由瑞利判據(見
分辨本領)確定:
N=
Aθ/
ελ,式中
A 為光束直徑,
λ 為光波波長,ε是通光口徑形狀和光束截面上光強分布的函式, 對於高斯型分布的光束,ε=1.27。
工作原理
下面簡要介紹幾種常用光偏轉器的工作原理。
轉鏡
轉鏡式光偏轉器是利用旋轉運動的驅動源(如電動機)拖動一塊多面反射體實現光偏轉的。由於有較大的慣性,當轉鏡轉速確定後,它可視作為單一頻率的偏轉器,由光的反射定律知偏轉光束的掃描角速度是轉鏡旋轉角速度的兩倍。這類光偏轉器的優點是偏轉線性好、通光口徑大、偏轉速率高等。它們廣泛用於高速攝影機和雷射套用技術中。圖 1是一種電動高速轉鏡裝置,一塊正三角形的多面反射體可以以30~40萬轉/分的速度旋轉。
振鏡
通常是一塊小反射鏡,粘固於懸掛在恆定磁場中的線圈上,當電流通過線圈時,在磁力的作用下線圈和小鏡一起產生轉動,而當電流取消時,彈性元件使線圈和小鏡回到原來的平衡位置。這種往返的偏轉使入射至小鏡的光束,在反射時形成正向掃描和回掃。由於系統慣性小,當電流隨時間呈鋸齒形改變時,振鏡使光束正向掃描時有很好的線性,而回掃極為迅速。同理,振鏡還可以做到高精度的伺服控制。
聲光偏轉器
聲波在透明媒質中傳播,由於光彈效應引起折射率的周期變化,利用這一現象可以製作成兩類 不同性質的偏轉器,一類是梯度折射率偏轉器,另一類是衍射偏轉器。前者用一束直徑遠小於聲波長的細光束正交入射至形成光駐波的聲光媒質中,該光束穿過由聲場造成的折射率發生漸變的空間,會向折射率增加的方向偏折,偏折範圍和頻率取決於聲強和聲頻。在衍射偏轉器中,光束的半徑要遠大於超音波長,利用光波在三維高頻聲
光柵中的衍射發生偏折。在粗略近似下,可以把聲波波陣面看成一系列間距為聲波長的部分反射鏡面(圖2)。入射光波以一定角度穿過這些反射鏡面列陣時,諸反射光波產生干涉。當滿足干涉加強條件,即滿足布喇格角條件(見
X射線衍射)時,合成的反射光波稱為一級衍射光,它和入射光之間的夾角是聲波長或聲頻的函式,因此改變聲頻即可以使一級衍射光波的傳播方向發生偏轉。這類器件由於可控性好,偏轉角定位精度高等優點,在光學工程中有廣泛的套用。目前這類器件的解析度已達1000。
影響
基模高斯光束在電光偏轉器中的傳輸特性分析:
取基模高斯光束的波長λ= 632.8 nm,束腰半徑ω
0= 1.5 mm,從雷射器出射至LiNbO3光束偏轉器的距離z
0= 0.5 m。光束偏轉器外加電壓
。另外,不妨假定初始時入射光的偏振方向和失配角都沿y方向。為計算方便,分析在特殊偏壓時刻的光傳輸特性,即第一稜鏡組上的外加電壓最大,第二稜鏡組上的外加電壓為0 V,其它時刻光束傳輸特性的計算方法完全相同。可計算出進入第一稜鏡組的電場分布,再計算出到達第一稜鏡組中兩塊稜鏡分界面上的電場分布。由於上下兩個稜鏡的折射率差極為微小,可忽略此分界面處的折射效應,再計算出到達第一稜鏡組出射面內側的電場分布,最後得到從第一稜鏡組出射的光束的電場分布。對於第二稜鏡組,由於外加電壓為0 V,可以通過一次折射、一次傳播和再一次的折射計算得到從第二稜鏡組出射的光束的電場分布。
下圖分別對應失配角為200μ rad時的入射光在第一稜鏡組入射面、出射面和第二稜鏡組出射面上的電場分布。由圖可見,除了電場幅度上的衰減外,電場分布的形狀也發生了細微的變化。
將計算得到的第二稜鏡組出射的電場分布作為信號光電場就可求出歸一化中頻電流與失配角的關係曲線(見下圖),由圖可見,兩條曲線存在一定的差異,它正是由LiNbO3光束偏轉器導致的傳輸光束電場變化造成的。本試驗系統要求達到對失配角10μ rad的檢測準確度,必須考慮光束偏轉器對歸一化中頻電流的影響,這樣才能得到比較滿意的測量結果。
基模高斯光束經過LiNbO3光束偏轉器後發生的光電場變化,計算了由此導致的檢測系統探測器輸出中頻電流和失配角之間關係的改變,有利於提高檢測系統的測量準確度。
其他形式
光偏轉器還有其他的形式,例如運用
泡克耳斯效應製作的連續偏轉器和數字偏轉器,利用
磁致伸縮驅動的振鏡以及光導纖維偏轉器、干涉偏轉器等。甚至有利用高損耗雷射腔的模式內選擇原理實現光偏轉的。光偏轉器往往與
光調製器組合在一起廣泛套用於光顯示和光貯存中。