低損耗雷射反射鏡

低損耗雷射反射鏡（low loss laser reflectance mirror） 多層介質反射鏡的反射率理論上可無限接近於100%，實際上則不可避免地存在吸收和散射損耗，這限制了反射鏡的極限反射率。

雷射器特別是低增益的氣體雷射器的輸出功率在很大程度上依賴於構成諧振腔的雷射反射鏡的反射率，反射率的進一步提高，只能以減少膜層中光學損耗來實現。膜層的吸收不僅與材料的消光係數有關，而且與膜內電場強度分布有關。對消光係數為kH=3×10-4，kL=9×10-5的ZnS/MgF2反射鏡，經計算結構為G(HL)8A的吸收為A=0.21%，而結構為G(HL)8HA的吸收僅為A=0.072%，這表明減少吸收的途徑。散射損耗分為兩類，即體積散射和表面散射。使用特殊工藝，現已能製造出反射率高達99.89%，散射率為0.09%的反射鏡。對鍍膜材料進行適當組合可用作雷射高反射膜和雷射寬頻高反射膜。用電子槍鍍制雷射反射膜稱為“硬”膜，它只有通過拋光才能除去。一般用蒸發鍍制的反射膜，在稀酸中能被溶解，稱為“軟”膜。