二氧化矽膜silicon dioxide Film }i02一種無定形玻璃 狀結構的電解質膜，為近程有序網狀結構、禁頻寬度8.1}}V- 密度2 . 2glcm3。介電係數3.9}折射率1.}iS一1.47。電阻率 llha一1U 5,17.-m:熔點170U}。採用在矽片上熱氧化、陽極氧 化、化學氣相沉積法製備，是半導體矽器件的優良的表面保護 膜和表f}l鈍化膜。__、__，、、.r卜
