作為分步重複精縮機和投影光刻機（步進機）投影鏡頭的物方的掩模母版稱之為中間掩模版。 基本介紹 中文名：中間掩模外文名：reticle 中間掩模是由原圖經過多次縮小照相或者由光學圖形發生器直接在感光板上曝光製作的掩模母版，圖形尺寸大於或等於最終矽片上所需要的圖形尺寸，其尺寸由投影鏡頭的縮小倍率確定。分步重複精縮機的縮小倍率為1：10，投影分布重複光刻機的縮小倍率為1：5或者1：4，1：1投影光刻機的中間掩模版圖形尺寸等於實際矽片晶片圖形的尺寸。中間掩模鉻膜朝下時的圖形方向與設計底圖的方向一致，屬於正向掩模版。
