氙和鹵素單質按一定比例在雷射器內,受激反應產生的不穩定準分子XeF、XeCl、XeBr或XeI。
基本介紹
- 中文名:一鹵化氙
- 簡介:
- 特點:
- 分類:化學物質
氙和鹵素單質按一定比例在雷射器內,受激反應產生的不穩定準分子XeF、XeCl、XeBr或XeI。可發射出大功率和特定波長的雷射束。例如,Ar/Xe/F2為99.6:0.3:0.1的混合氣體,受激發射出波長為354納米的雷射束。XeCl、XeBr和XeI的雷射束波長分別為308、282和254納米。均在紫外波段。這類氣體雷射器已廣泛用於光化學、同位素分離和核聚變等領域。