《一種200mmCMPRingPPS大平面研磨方法》是寧波江豐電子材料股份有限公司於2021年3月4日申請的專利，該專利公布號為CN112975586A，專利公布日為2021年6月18日，發明人是姚力軍、邊逸軍、潘傑、王學澤、章麗娜。
基本介紹
- 中文名：一種200mmCMPRingPPS大平面研磨方法
- 授權公告號：CN112975586A
- 授權公告日：2021年6月18日
- 申請號：2021102399232
- 發明人：姚力軍; 邊逸軍; 潘傑; 王學澤; 章麗娜
- 申請日：2021.03.04
- Int. Cl.：B24B1/00(2006.01)I
- 申請人：寧波江豐電子材料股份有限公司
- 專利代理機構：北京遠智匯智慧財產權代理有限公司11659
- 地址：315400浙江省寧波市餘姚市經濟開發區名邦科技工業園區安山路
- 代理人：王岩
專利摘要
本發明提供一種200mm CMP Ring PPS大平面研磨方法，所述研磨方法包括：對研磨機、研磨液以及研磨產品進行準備；將所述研磨產品安裝至所述研磨機，並對所述研磨產品進行研磨加工；對所述研磨機進行保養。所述研磨方法可以提高PPS大平面的研磨效果，使得PPS表面產生鏡面效果，增加CMP Ring的研磨使用次數。
