《一種高性能拋光膜及其製備方法》是北京國瑞升科技股份有限公司於2021.03.01申請的專利，該專利公布號：CN112980035A，專利公布日：2021.06.18，發明人是：譚錦錦; 程麗芳; 邢繼軍。
基本介紹
- 中文名：一種高性能拋光膜及其製備方法
- 公布號：CN112980035A
- 公布日：2021.06.18
- 申請號：202110225646X
- 申請日：2021.03.01
- 申請人：北京國瑞升科技股份有限公司
- 地址：100085北京市海淀區上地信息路12號1號樓C402、C406室
- 發明人：譚錦錦; 程麗芳; 邢繼軍
- Int. Cl.：C08J7/046(2020.01)I; C09D163/02(2006.01)I; C09D7/61(2018.01)I; C08L67/00(2006.01)N
- 專利代理機構：北京紐樂康智慧財產權代理事務所(普通合夥)11210
- 代理人：劉艷艷
專利摘要
本發明公開了一種高性能拋光膜及其製備方法，所述高性能拋光膜包括基材和設定於所述基材表面的研磨塗層，所述研磨塗層是由研磨微粉、樹脂膠、增韌劑和空心微球混合得到的塗布液塗布在所述基材表面形成的固化乾燥層。本發明的高性能拋光膜通過加入增韌劑改善塗層的柔韌性，從而減少了塗層內收縮應力，增加了塗層和基材的附著力；通過加入空心微球分散了樹脂固化後的收縮應力，從而改善了拋光膜成品的向磨料面捲曲問題；分散在基體中的微球在磨拋材料被磨削過程中起到吸收和緩衝磨削力的作用，從而在原有磨拋材料的粘接強度不大幅下降的情況下，提升研磨壽命。
