《一種化成箔處理液、處理方法及化成箔》是深圳新宙邦科技股份有限公司於2019年12月17日申請的專利，該專利公布號為CN112981485A，專利公布日為2021年6月18日，發明人是姜希松、姜鵬、趙大成、王明傑、賈雲、李東榮。
基本介紹
- 中文名：一種化成箔處理液、處理方法及化成箔
- 授權公告號：CN112981485A
- 授權公告日：2021年6月18日
- 申請號：201911304811X
- 申請日：2019.12.17
- 申請人：深圳新宙邦科技股份有限公司
- 地址：518118廣東省深圳市坪山新區沙坣同富裕工業區
- 發明人：姜希松; 姜鵬; 趙大成; 王明傑; 賈雲; 李東榮
- Int. Cl.：C25D11/02(2006.01)I; C25D11/06(2006.01)I; H01G9/055(2006.01)I
- 專利代理機構：深圳眾鼎專利商標代理事務所(普通合夥)44325
- 代理人：姚章國
專利摘要
為克服現有電容器化成箔存在升壓時間長、漏電流大的問題，本發明提供了一種化成箔處理液，包括溶劑和結構式1所示的化合物；
結構式1
其中，X1、X2和X3各自獨立地選自鹵素、胺基、羥基、烷氧基、醯氧基或烷基，R選自以下結構式2～4所示的基團，n選自1～10；
結構式2～4
同時，本發明還公開了一種化成箔處理方法及化成箔。本發明提供的化成箔處理液能夠有效縮短化成箔的升壓時間，降低漏電流，有效縮短了電容器老化的時間，抑制電容器的漏電流回升，減少電容器的早期失效機率。
