基本介紹
- 中文名:p-i-n光電二極體
- 外文名: p-i-n Photo-Diode
- 縮寫:pin-PD
- 類屬:光電二極體
基本結構,基本設計,
基本結構
因為PD的主要有源區是勢壘區,所以展寬勢壘區即可提高靈敏度。p-i-n結光電二極體實際上也就是人為地把p-n結的勢壘區寬度加以擴展,即採用較寬的本徵半導體(i)層來取代勢壘區,而成為了p-i-n結(見圖示)。
p-i-n結光電二極體的有效作用區主要就是存在有電場的i型層(勢壘區),則產生光生載流子的有效區域增大了,擴散的影響減弱了,並且結電容也大大減小了,所以其光檢測的靈敏度和回響速度都得到了很大的提高。
基本設計
p-i-n結光電二極體中i型層的厚度d是一個重要的結構參量,從提高回響速度和靈敏度來看,要求d應該大一些;但是若d過大,則光生載流子在i層中漂移(速度為vd)的時間(d / vd)將增長,這反而不利,因此可根據d / vd = 調製信號周期T的一半來選取,即有d = vd T / 2。
另外,為了減小表面半導體層對光的吸收作用,應該採用禁頻寬度較大的視窗材料(例如在GaInAs體系中採用InP作為光照區,見圖示)。
(3)p-i-n雪崩倍增光電二極體: