掩膜（MASK）是指單片機掩膜是指程式數據已經做成光刻版，在單片機生產的過程中把程式做進去。優點是：程式可靠、成本低。缺點：批量要求大，每次修改程式就需要重新做光刻板，不同程式不能同時生產，供貨周期長。
基本介紹
- 中文名：掩膜
- 外文名：MASK
- 缺點：批量要求大
- 圖像掩模：選定的圖像
單片機掩膜,圖像掩膜,
單片機掩膜
在半導體製造中，許多晶片工藝步驟採用光刻技術，用於這些步驟的圖形“底片”稱為掩膜（也稱作“掩模”），其作用是：在矽片上選定的區域中對一個不透明的圖形模板遮蓋，繼而下面的腐蝕或擴散將只影響選定的區域以外的區域。
圖像掩膜
用選定的圖像、圖形或物體，對處理的圖像（全部或局部）進行遮擋，來控制圖像處理的區域或處理過程。用於覆蓋的特定圖像或物體稱為掩模或模板。光學圖像處理中,掩模可以是膠片、濾光片等。數字圖像處理中,掩模為二維矩陣數組,有時也用多值圖像。
數字圖像處理中，圖像掩模主要用於：
①提取感興趣區,用預先製作的感興趣區掩模與待處理圖像相乘,得到感興趣區圖像,感興趣區內圖像值保持不變,而區外圖像值都為0。
②禁止作用,用掩模對圖像上某些區域作禁止,使其不參加處理或不參加處理參數的計算,或僅對禁止區作處理或統計。
③結構特徵提取,用相似性變數或圖像匹配方法檢測和提取圖像中與掩模相似的結構特徵。
④特殊形狀圖像的製作。
掩膜是一種圖像濾鏡的模板，實用掩膜經常處理的是遙感圖像。當提取道路或者河流，或者房屋時，通過一個n*n的矩陣來對圖像進行像素過濾，然後將我們需要的地物或者標誌突出顯示出來。這個矩陣就是一種掩膜。
