Dip-pen納米刻蝕技術

Dip-pen納米刻蝕技術(簡稱DPN技術)是由美國西北大學Mirkin小組在1999年發明的,他們發明Dip-pen技術的靈感來自於一個一直困擾著他們的問題,就是在進行掃描探針繪圖時,當掃描解析度達到納米甚至是埃量級時,周圍環境中的水就在AFM針尖和樣品間通過毛細作用形成一個很窄的溝,這將極大地影響繪圖質量。

基本介紹

  • 中文名:Dip-pen納米刻蝕技術
  • 簡稱:DPN技術
在後來的工作中,他們發現這種情況依賴於環境的相對濕度和基底的浸潤性,水可以由基底傳到針尖或是與之相反(從針尖到基底)。在後一種情況中,亞穩態納米量級的圖形是通過AFM針尖上的薄的水層沉積形成的。他們發現被傳輸的分子可以通過化學吸附固定在基底上,形成一個穩定的表面結構,由此誕生了一種全新的納米刻蝕技術———DPN技術。這種技術在生物分子二維可控組裝方面顯示出了強大的優越性。

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