C-t瞬態和產生壽命測量研究

C-t瞬態和產生壽命測量研究

《C-t瞬態和產生壽命測量研究》是依託浙江大學,由張秀淼擔任項目負責人的面上項目。

基本介紹

  • 中文名:C-t瞬態和產生壽命測量研究
  • 依託單位:浙江大學
  • 項目負責人:張秀淼
  • 項目類別:面上項目
  • 批准號:69276036
  • 申請代碼:F0405
  • 負責人職稱:副教授
  • 研究期限:1993-01-01 至 1995-12-31
  • 支持經費:2(萬元)
項目摘要
本項目研究了MOS電容器C—t瞬態過程的精確描述方法,建立了若干種利用MOS電容器的C—t瞬態測量產生壽命的新的方法,給出了相應的計算公式,採用這些方法的測量結果比以前更加準確,建立了微機輔助測量系統,使測量快捷、方便,本項目還深入研究了電場對產生過程的影響,提出了比以前理論更為全面的產生過程理論,比較深刻地揭示了這一過程的物理本質。研究成果顯著,已發表論文16篇,引起國際同行的關注,研究成果可用於研究半導體中的雜質和缺陷、評價半導體材料的質量,也可用於半導體器件和積體電路生產工藝的線上監控,研究工作基本完成了預期計畫,實現了預定目標。

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