《高閾值超寬頻雷射薄膜色散最佳化設計與損傷機制研究》是依託中國科學院上海光學精密機械研究所，由王胭脂擔任項目負責人的聯合基金項目。
基本介紹
- 中文名：高閾值超寬頻雷射薄膜色散最佳化設計與損傷機制研究
- 項目類別：聯合基金項目
- 項目負責人：王胭脂
- 依託單位：中國科學院上海光學精密機械研究所
- 批准號：U1630140
- 申請代碼：A31
- 負責人職稱：副研究員
- 研究期限：2017-01-01 至 2019-12-31
- 支持經費：58（萬元）
項目摘要
提升雷射峰值功率的主要手段有兩個方面，即提高系統輸出能量和壓縮脈衝寬度。實現脈衝寬度壓縮至變換極限或周期量級，對薄膜科學與技術提出了新的要求：同時須滿足高閾值、超寬頻及色散自由調控，但是目前的報導更多的是將這三者孤立開展，三者兼顧的研究還沒有系統的進行。本項目擬研究超寬頻對高損傷閾值和色散調控的制約問題及超快超寬頻色散薄膜的損傷機制。首先提出超寬頻新型高閾值色散調控薄膜的設計方法和結構評價模型，明確和量化寬頻、高反射率和色散補償量及色散振盪要求與高損傷閾值之間相互制約的關係，研究薄膜材料電場分布調控的數理模型。此外，形成敏感膜層厚度精確控制技術，並基於材料特性、駐波場、多波長機制、非線性效應等，開展超快超寬頻色散薄膜的損傷機理研究，引入電場結構和材料性質評價參數，獲得超寬頻給色散調控和抗雷射損傷能力帶來的約束問題的解決途徑。
