《高性能垂直膜面各向異性永磁厚膜材料的研究》是依託南京大學，由唐少龍擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：高性能垂直膜面各向異性永磁厚膜材料的研究
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：唐少龍
- 依託單位：南京大學
- 批准號：50571043
- 申請代碼：E0107
- 負責人職稱：教授
- 研究期限：2006-01-01 至 2008-12-31
- 支持經費：25（萬元）
項目摘要
高性能永磁膜由於在微電子機械系統方面有著重要的套用前景，近年來受到廣泛重視。如何獲得厚度為2微米到50微米的高性能垂直膜面各向異性永磁厚膜是目前研究的熱點和難點。本項目在已有的初步研究結果基礎上提出採用多層膜的方法製備高性能垂直膜面各向異性的永磁厚膜材料。我們將系統研究濺射沉積條件對間隔層、緩衝層生長規律、RE-Fe-B的柱狀晶的形成機理、間隔層(緩衝層)/RE-Fe-B磁性層界面、內應力、垂直膜面各向異性和永磁性能的影響，研究垂直膜面各向異性永磁膜矯頑力機制和各向異性多層膜納米複合機理，探索出具有實用意義的高性能垂直膜面各向異性永磁厚膜材料，為微電子機械系統用永磁厚膜材料研究奠定基礎。
