高密度離子反應檢測系統

高密度離子反應檢測系統是一種用於化學領域的物理性能測試儀器，於2007年9月13日啟用。

基本介紹

• 中文名：高密度離子反應檢測系統
• 產地：英國
• 學科領域：化學
• 啟用日期：2007年9月13日
• 所屬類別：物理性能測試儀器

技術指標

氣體流量20-200sccm, RF功率0-300W, ICP功率0-500w, 腔體壓力５-500mTorr, 偏壓 100-800V，解析度可達到20nm。

主要功能

用於聚合物殘留層的刻蝕及SiO2和Si 的刻蝕。可以進行均相和非均相刻蝕，可以用RIE及ICP工藝。