基本介紹
- 中文名:預對準
- 外文名:Pre-alignment
預對準 使用四象限來完成掩模的預對準可以使系統更經濟、緊湊。該系統的精度要求在7mm,可以用四象限來實現。該預對準系統由光源、透鏡組,掩模版以及四象限組成,如圖3所示,A為LD光源,發射近紅外準直雷射,波長為650nm,頻寬10nm,...
五、ATHENA離軸對準的對準算法及工藝適應性六、深紫外光刻同軸對準原理第五節 矽片傳輸與矽片預對準技術一、矽片傳輸系統二、矽片預對準技術第六節 掩模傳輸與掩模預對準技術一、掩模傳輸系統二、掩模預對準技術...
專利WO98/40791(公開日期:1998.9.17;國別:荷蘭)所描述的結構採用雙矽片台結構,將上下片、預對準、對準等曝光準備工作轉移至第二個矽片台上,且與曝光矽片台同時獨立運動。在不提高矽片台運動速度的前提下,曝光矽片台大量的準備工作由第...
沿矽片中心因旋轉而產生的位置偏差,通常用角度來表征。旋轉通常是由於預對準精度不足或者矽片缺口處有物理損傷影響預對準,引起矽片在工件台上放置的位置存在旋轉引起。