非均勻偏振渦旋光束及套用研究

《非均勻偏振渦旋光束及套用研究》是依託南京大學，由丁劍平擔任項目負責人的面上項目。

基本介紹

• 中文名：非均勻偏振渦旋光束及套用研究
• 項目類別：面上項目
• 項目負責人：丁劍平
• 依託單位：南京大學
• 批准號：10874078
• 申請代碼：A2201
• 負責人職稱：教授
• 研究期限：2009-01-01 至 2011-12-31
• 支持經費：35（萬元）

項目摘要

偏振狀態非均勻分布的矢量光束具有許多不同於均勻偏振光束的新穎性質和套用前景而受到極大關注。本申請研究任意偏振分布和渦旋相位光束的性質和生成方法及其在光學微操縱中的套用：研究產生非均勻偏振渦旋光束的新途徑和實驗系統；發展新的分析理論和計算方法，用於求解處於渦旋光束聚焦區中的微粒的場分布；建立多功能的動態全息光鑷系統，實現非均勻偏振矢量渦旋聚焦光束對介觀微粒的光學微操縱；研究偏振調控和相位調控相結合的方法，獲得特殊形態結構的三維焦場，探討特定焦場的性質及其套用途徑。研究金屬或介質微粒在矢量渦旋光鑷操縱下的光物理性質，發現新的效應；研究光波偏振信息的作用和套用，分析偏振的空間分布對矢量光束傳播演化的影響，