《電漿放電與材料工藝原理（第二版）》是2018年1月1日電子工業出版社出版的圖書，作者是蒲以康等。
內容簡介,目錄,
內容簡介
本書反映了電漿物理相關領域最新的研究進展，深入闡述了電漿物理和化學的基本原理。書中套用基本理論來分析各種常見電漿源的放電狀態，包括計算電漿參數及分析電漿參數與控制參數的相關關係。
本書還討論了半導體材料的刻蝕，薄膜沉積，離子注入等低溫電漿在材料處理方面的套用，具有實際參考價值。全書共18章，內容包括電漿的基礎知識、電漿放電過程中的粒子平衡和能量平衡、容性和感性放電、波加熱的氣體放電、直流放電、刻蝕、沉積與注入、塵埃電漿，以及氣體放電的動理論等。
目錄
第1章概述
1.1材料處理
1.2電漿和鞘層
1.2.1電漿
1.2.2鞘層
1.3放電
1.3.1射頻二極放電系統
1.3.2高密度電漿源
1.4符號和單位
第2章電漿的基本方程和平衡態性質
2.1引言
2.2場方程、電流和電壓
2.2.1麥克斯韋方程組
2.3守恆方程
2.3.1玻爾茲曼方程
2.3.2巨觀量
2.3.3粒子數守恆方程
2.3.4動量守恆方程
2.3.5能量守恆方程
2.3.6小結
2.4平衡態性質
2.4.1玻爾茲曼關係式
2.4.2德拜長度
2.4.3準電中性
2.5習題
第3章原子碰撞
3.1基本概念
3.1.1彈性和非彈性碰撞
3.1.2碰撞參數
3.1.3微分散射截面
3.2碰撞動力學
3.2.1質心坐標系
3.2.2能量轉移
3.2.3小角度散射
3.3彈性散射
3.3.1庫侖碰撞
3.3.2極化散射
3.4非彈性碰撞
3.4.1原子能級
3.4.2電偶極輻射和亞穩態原子
3.4.3電子碰撞電離截面
3.4.4電子碰撞激發截面
3.4.5離子-原子電荷轉移
3.4.6離子-原子碰撞電離
3.5分布函式下的平均值和表面效應
3.5.1麥克斯韋分布下的平均值
3.5.2每產生一個電子-離子對所造成的能量損失
3.5.3表面效應
3.6習題
第4章電漿動力學
4.1基本運動
4.1.1在均勻穩定場中的運動
4.1.2E×B漂移
4.1.3能量守恆
4.2非磁化電漿動力學
4.2.1電漿振盪
4.2.2介電常數和電導率
4.2.3歐姆加熱
4.2.4電磁波
4.2.5靜電波
4.3導向中心運動
4.3.1平行力
4.3.2磁矩的絕熱不變性
4.3.3沿磁力線運動產生的漂移（曲率漂移）
4.3.4由迴旋運動產生的漂移（梯度漂移）
4.3.5極化漂移
4.4磁化電漿動力學
4.4.1介電張量
4.4.2波的色散關係
4.5磁化電漿中的波
4.5.1基本電子波
4.5.2包含離子運動的基本波
4.5.3CMA圖
4.6波診斷
4.6.1干涉儀
4.6.2諧振腔微擾法
4.6.3波傳播法
4.7習題
第5章擴散和輸運
5.1基本關係式
5.1.1擴散和遷移率
5.1.2自由擴散
5.1.3雙極性擴散
5.2擴散方程的解
5.2.1邊界條件
5.2.2隨時間變化的解
5.2.3穩態平行板解
5.2.4穩態圓柱形解
5.3低氣壓解
5.3.1變遷移率模型
5.3.2朗繆爾解
5.3.3經驗歸納解
5.4在磁場中的擴散過程
5.4.1雙極性擴散
5.5磁多極約束
5.5.1磁場結構分析
5.5.2電漿約束
5.5.3泄漏寬度w
5.6習題
第6章直流鞘層
6.1基本概念和方程
6.1.1無碰撞鞘層
6.2玻姆鞘層判據
6.2.1對電漿的要求
6.2.2預鞘層
6.2.3懸浮器壁的鞘層電位
6.2.4碰撞鞘層
6.2.5模擬結果
6.3高電壓鞘層
6.3.1板形鞘層（Matrix Sheath）
6.3.2滿足蔡爾德定律的鞘層
6.4鞘層形成的廣義判據
6.4.1電負性氣體
6.4.2具有多種正離子的電漿
6.5高電壓碰撞鞘層
6.6靜電探針診斷
6.6.1無碰撞鞘層中的平面探針
6.6.2具有非麥克斯韋分布電子時的情況
6.6.3無碰撞鞘層中的圓柱形探針
6.6.4雙探針和發射探針
6.6.5碰撞和直流磁場效應
6.6.6探針製作和探針電路
6.6.7隨時間變化電場中的探針
6.7習題
第7章化學反應和平衡
7.1引言
7.2能量和焓
7.3熵和吉布斯自由能
7.3.1吉布斯自由能
7.4化學平衡
7.4.1氣壓和溫度的影響
7.5異相平衡
7.5.1不同相之間的平衡
7.5.2在表面上的平衡
7.6習題
第8章分子碰撞
8.1引言
8.2分子結構
8.2.1分子的振動和轉動能級
8.2.2光學輻射
8.2.3負離子
8.3電子-分子碰撞反應
8.3.1分解
8.3.2分解電離
8.3.3分解複合
8.3.4氫分子的例子
8.3.5分解電子吸附
8.3.6極化分解
