《電光聯合測量研究PLS納米複合物局部放電與介電性能》是依託哈爾濱理工大學，由張曉虹擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：電光聯合測量研究PLS納米複合物局部放電與介電性能
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：張曉虹
- 依託單位：哈爾濱理工大學
- 負責人職稱：教授
- 批准號：50377009
- 申請代碼：E0702
- 研究期限：2004-01-01 至 2006-12-31
- 支持經費：24（萬元）
項目摘要
通過插層複合技術製備聚合物/層狀矽酸鹽（PLS）納米複合物，由於有機/無機相之間良好的相容性，可以在一定尺度範圍內形成準均勻相結構，因此，可以減少局部放電發生的幾率。同時，層狀矽酸鹽可以提供界面勢壘和深陷阱，吸收並消耗放電所產生高能粒子的能量，從而阻止了複合物體內局部放電的發展和電樹枝的擴展，可以從根本上提高聚合物絕緣的長期絕緣強度和使用壽命。.利用超高頻局部放電和光學聯合檢測技術，以及寬頻介電譜，熱激電流譜，動態力學譜和SEM或AFM等測量技術，研究聚合物-層狀矽酸鹽(PLS)納米複合物在高電場長期作用下，微觀結構形態及巨觀介電性能的變化規律。建立材料的微觀、介觀結構與巨觀介電性能之間的關係。為納米複合材料向電氣絕緣領域的套用，提供科學依據和基礎數據。
