電光實時成像分析系統是一種用於化學領域的分析儀器，於2018年10月8日啟用。
基本介紹
- 中文名：電光實時成像分析系統
- 產地：日本
- 學科領域：化學
- 啟用日期：2018年10月8日
- 所屬類別：分析儀器 > 顯微鏡及圖象分析儀器 > 光學顯微鏡
技術指標,主要功能,
技術指標
.1 光學平台部分 .1.1 光學系統：無限遠校正光學系統 .1.2 光學平台主機：科研級全電動顯微鏡。聚光鏡、物鏡、螢光激發塊轉盤、光路切換等部件電動轉換。電動XY移動平台，電動Z聚焦。多種複雜觀察方式一鍵切換。 .1.3 ★顯微鏡主機電動Z軸，調焦行程≥10mm，且最小步進≤10nm，需提供英文樣本確認 .1.4 精確定位功能載物台；具備XY鎖定和復位功能。
主要功能
全內反射螢光顯微技術，是利用雷射全反射（TIRF）產生的消逝波激發蓋玻片附近的單個螢光分子。在全內反射基礎上，進一步通過特殊染料及相應算法，可獲取超高解析度圖像。
