雷射顯微拉曼成像光譜儀是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2015年3月18日啟用。
基本介紹
- 中文名：雷射顯微拉曼成像光譜儀
- 產地：美國
- 學科領域：材料科學
- 啟用日期：2015年3月18日
- 所屬類別：分析儀器 > 光譜儀器 > 拉曼光譜儀
技術指標,主要功能,
技術指標
1. 通光效率：光學系統採用獨特消像散反射式光路設計，全光譜範圍無色差，系統通光效率＞30%。 2. 靈敏度：單晶矽三階峰的信噪比優於25:1，可觀察到四階峰。 （檢測條件：使用單晶矽片，波長532 nm，樣品點功率10mW，狹縫寬度（或針孔） 25微米，總曝光時間300秒,binning = 1，50X或100X顯微物鏡）。 3. *光譜解析度：＜1.5cm-1 （檢測條件：採用氖燈測量，10×物鏡，1800線光柵，+1級衍射；測量氖燈譜線585nm半高寬，全半高寬（FWHM）:＜1.5cm-1）。 4. 光譜重複性：優於±0.2cm-1 （檢驗方法：使用表面拋光的單晶矽樣品，50×物鏡，光譜範圍50～3500cm-1，重複20次。觀測矽一階拉曼峰（520cm-1），520峰中心位置重複性≤±0.2 cm-1） 5. *共聚焦技術： （1）*軟體控制針孔式共聚焦技術，以保證層析測量的精度。 （2）*雙光闌光學設計：針孔與狹縫處於同一共軛位置，簡化光學傳遞元件，提高拉曼信號傳遞效率，保證共焦與非共焦下都能實現高靈敏度。計算機控制針孔與狹縫自動切換。
主要功能
研究級雷射顯微拉曼光譜儀，具有新型快速拉曼成像、自動化光學控制系統、高靈敏度智慧型化檢測方式、多功能軟體及最大資料庫等分析功能；儀器採用I 級雷射安全等級標準和模組化高穩固設計，儀器的研究級顯微鏡、高解析度光柵、高性能EMCCD探測器，以及光學系統的主要部件與澆鑄合金基座整體結合，保證系統高穩定性。
