利用雷射曝光技術是指通過雷射頭產生光柱進行曝光,然後顯影,讓未見光部分網孔穿透,這種輸出設備的輸出解析度較高。雷射曝光系統的工作原理: 先在絲網上塗布好絲網感光膠並乾燥,然後通過計算機控制雷射曝光器在網版上成像,顯影后就製成絲網版。
基本介紹
- 中文名:雷射曝光技術
- 類型:技術
雷射曝光系統和噴墨系統的區別是,雷射系統使用激代替油墨,雷射頭產生光柱對網版感光膠直接進行曝光,不需要後面的全曝光步驟。
利用雷射曝光技術是指通過雷射頭產生光柱進行曝光,然後顯影,讓未見光部分網孔穿透,這種輸出設備的輸出解析度較高。雷射曝光系統的工作原理: 先在絲網上塗布好絲網感光膠並乾燥,然後通過計算機控制雷射曝光器在網版上成像,顯影后就製成絲網版。
雷射光刻是利用光學-化學反應原理等方法,將電路圖形刻印在介質表面,達到想要的圖形刻意功能的新型微細加工技術。 中文名 雷射光刻 外文名 Laser lithography 類型 化學反應目錄 1光刻技術 2光複印和刻蝕工藝 3曝光方式常用的曝光方式分類 ...
人們出於對後光學技術可能難以勝任2008年的70nm,2011年的50nm擔心,正大力研發下一代(NGL)非光學曝光,並把157nmF2準分子雷射曝光作為填補後光學曝光和下一代非光學曝光間的間隙。分子雷射曝光 改善了折反射光學系統的性能 波長為157...
準分子光刻技術 準分子光刻技術作為當前主流的光刻技術,主要包括:特徵尺寸為0.1μm的248 nm KrF準分子雷射技術;特徵尺寸為90 nm的193 nm ArF準分子雷射技術;特徵尺寸為65 nm的193 nm ArF浸沒式技術(Immersion,193i)...
雷射曝光技術 雷射曝光的光源由R(紅)G(綠)B(藍)三色雷射組成,三色雷射束被匯聚成單束雷射,通過控制系統用三色雷射混合成所需的顏色,然後再由這單束雷射對相機進行曝光。由於雷射光源有色度純,亮度高,控制精確、像素一致,所以雷射...