雙重顯影技術

雙重顯影技術將光刻膠薄膜首先在水溶顯影液顯影，然後在負性顯影液顯影，實現圖形周期加倍的一種技術。

基本介紹

• 中文名：雙重顯影技術
• 外文名：Dual-tone Development

雙重顯影技術是為簡化多重光刻工藝步驟而提出的，如圖1所示。曝光光強從空隙中心的最大值逐漸過渡到線條中心的最小值。在負性顯影液中，具有較小劑量的區域被顯影；而在標準水溶顯影液(TMAH)中，較大劑量的區域被顯影。因此，掩模上的一條線條在光刻膠上產生了雙線條。

圖1 雙重顯影工藝示意圖

在雙重顯影技術中，正性和負性的工藝的顯影閾值必須被小心匹配，如果正性和負性顯影的對比度曲線重疊非常小，經過兩次顯影步驟之後，幾乎所有的光刻膠都被顯影。需要有充分的曲線重疊才能夠產生正確的特徵尺寸。由於每條光刻膠線條的邊緣來自於不同的顯影工藝，因此線條兩邊的粗糙度不同。同時由於負性有機顯影液與標準TMAH顯影液是不兼容的，噴淋杯罩和排廢系統必須獨立分開設計。