《集成非製冷熱成像探測陳列》是2004年1月1日由國防工業出版社出版的圖書，作者是劉衛國，金娜。
基本介紹
- 中文名：集成非製冷熱成像探測陳列
- 作 者：：劉衛國，金娜 著
- 叢 書 名：：冷配線上
- 出 版 社：國防工業出版社
基本信息,內容簡介,圖書目錄,
基本信息
《集成非製冷熱成像探測陳列》
ISBN：9787118034127
版 次：1
頁 數：395
裝 幀：平裝
開 本：32開
內容簡介
非製冷熱成像探測的套用覆蓋了從民用到國防的諸多領域，如紅外製導、目標偵察、火控跟蹤以及安全警戒、大氣檢測等。由於其套用的廣泛性，特別是在國防領域的重要套用，國內從20世紀90年代開始了相關研究。本書總結了作者十多年來在相關領域的研究成果，並介紹了當前研究的新進展。
圖書目錄
第一章 熱探測器發展簡史
參考文獻
第二章 熱探測原理
2.1 熱輻射及熱探測器基本概念
2.1.1 熱輻射概念
2.1.2 熱探測器的基本參數
2.2 熱探測器的基本結構
2.3 測輻射熱計原理
2.3.1 偏置效應
2.3.2 測輻射熱計的噪聲
2.3.3 限制測輻射熱計性能的主要因素
2.4 熱釋電探測原理
2.4.1 鐵電材料的熱釋電性質
2.4.2 熱釋電探測模式
2.4.3 熱釋電回響
2.4.4 熱釋電探測器的噪聲
2.4.5 實際熱釋電探測器
參考文獻
第三章 熱探測材料
3.1 測輻射熱計材料
3.1.1 材料選擇依據
3.1.2 常用的測輻射熱計材料
3.2 熱釋電材料
3.2.1 熱釋電材料選擇的依據
3.2.2 常用熱釋電簿膜材料
參考文獻
第四章 熱探測薄膜製備技術
4.1 薄膜製備的基本方法
4.1.1 常用薄弱沉積方法
4.1.2 薄膜的生長過程
4.1.3 襯底
4.1.4 其它薄膜沉積技術
4.2 電阻薄膜的沉積
4.2.1 αSi:H
4.2.2 VOx薄膜的製備
4.2.3 非晶YBCO薄膜
4.3 鐵電薄膜的製備
4.3.1 化學溶液法
4.3.2 濺射
4.3.3 MOCVD
4.3.4 脈衝雷射沉積技術（PLD）
參考文獻
第五章 熱探測器的基本結構與集成製造
第六章 熱探測器陣列的信號處理
第七章 熱探測器陣我與系統性能測試
第八章 新型熱探測技術與熱成像系統的典型套用
