《光電科學與工程專業規劃教材:陰極電子學》是2013年國防工業出版社出版的圖書，作者是林祖倫，王小菊 。
基本介紹
- 中文名：陰極電子學
- 作者：林祖倫，王小菊
- 出版社： 國防工業出版社
- 出版時間：2013年1月
- 頁數：260 頁
- 定價：35 元
- 開本：16 開
- 裝幀： 平裝
- ISBN：9787118081206
- 副標題：陰極電子學
內容介紹,目錄,
內容介紹
《光電科學與工程專業規劃教材:陰極電子學》詳細介紹了電子發射的基礎理論，各種陰極的電子發射機理、結構、性能和製備工藝，同時還介紹了各類陰極的套用和研究現狀。主要內容有：熱紋放巴電子發射的理論基礎；各類熱陰極（純金屬陰極、原子薄膜陰極、氧化物陰極、儲備式陰極、六硼化鑭陰極）；場致電子發射陰極；光電陰極；次級電子發射體等。
目錄
第1章 熱電子發射的理論基礎
1.1 熱陰極的基本參量
1.2 純金屬的熱電子發射現象
1.3 熱電子發射的理論基礎
1.3.1 金屬的自由電子模型
1.3.2 金屬中自由電子組汗循鑽的狀態
1.3.3 金屬中自由電子的統計分布
1.3.4 金屬中電子的費米能級
1.4 金屬的表面勢壘和逸出功
1.4.1 表面勢壘
1.4.2 逸出功
1.5 金屬的接觸電位差
1.6 純金屬的熱電子發射方程
1.7 熱發射電子的初速及冷卻效應
1.8 電場作用下熱發射電流的流通規律
1.8.1 “理想”二極體的全伏安特性和極間電位分布
1.8.2 拒斥場下的陽極電流
1.8.3 加速場下的陽極電流--肖特基效應
1.8.4 空間電荷限制下的陽極電流--二分之三次方定律
1.8.5 熱電子初速對二分之三次方定律的影響
1.8.6 實際工作狀態下鑽刪境的熱陰極發射理論--Longo方程
1.9 實用純金屬陰極
第2章 原子薄膜陰極
2.1 敷釷鎢陰極的熱發射現象
2.2 發射機理的探討
2.3 蒸發與擴散的平衡
2.4 非正常肖特基希碑跨效應與“斑點場”
2.5 其他類型的原子薄膜陰極
2.5.1 碳化敷釷鎢陰極
2.5.2 鑭-鎢、鑭-鉬和釔-鉭陰極
第3章 氧化物陰匙迎極
3.1 氧化物陰辨全府極的材料和工藝
3.1.1 氧化物陰極的結構和材料
3.1.2 氧化物陰極的製備工藝
3.2 氧化物陰極的發射模型
3.2.1 氧化物陰極的半導體模型
3.2.2 氧化物陰極的“動態發射中心”模型
3.3 氧化物陰極的運用特性
3.3.1 氧化物陰極的塗層電導率
3.3.2 氧化物陰極的發射特性
3.4 氧化物陰極的改進形式
第4章 其他類型的熱陰極
4.1 儲備式陰極
4.1.1 L陰極
4.1.2 鋇鎢陰極
4.1.3 儲備式陰極的改進形式
4.1.4 儲備式陰極的蒸發
4.2 六硼煮朽挨譽化鑭陰極
4.2.1 六硼化鑭陰極的特性
4.2.2 六硼化鑭陰極的製備與結構
4.3 其他類型的熱陰極
4.3.1 氧化釷及稀土氧化物陰極
4.3.2 碳化物陰極
4.3.3 銥鑭陰極
第5章 場致電子發射
5.1 金屬場致發射理論
5.1.1 經典理論的矛盾
5.1.2 量子理論的定性說明
5.1.3 金屬場致電子發射方程
5.1.4 金屬場致發射的實驗研究
5.2 半導體的外場致發射
5.2.1 半導體的外場致發射理論
5.2.2 半導體場致電子發射方程
5.3 內場致發射
5.3.1 介質薄膜的內場致發射
5.3.2 反向偏壓pn結的電子發射
5.3.3 負電子親和勢內場致發射
5.4 場致發射陰極的材料和工藝
5.4.1 場致電子發射的性能參數及材料選擇
5.4.2 場致發射陰極的結構和工藝
5.4.3 新型場致發射材料
5.5 場致發射陰極的套用
5.5.1 顯微技術
5.5.2 微波真空電子器件
5.5.3 爆發式電子發射
5.5.4 場發射顯示器
5.5.5 場發射光源
5.5.6 感測技術
第6章 光電子發射
6.1 金屬的光電子發射
6.1.1 金屬光電子發射的規律
6.1.2 金屬光電子發射的理論
6.2 半導體的光電子發射
6.2.1 半導體光電子發射的物理過程
6.2.2 半導體光電陰極的量子效率
6.2.3 獲得高量子產額光電陰極的措施
6.2.4 半導體缺陷能級對光電發射的影響
6.3 實用光電陰極
6.3.1 光電陰極的主要參數和材料選擇
6.3.2 實用光電陰極概述
6.3.3 銀氧銫光電陰極
6.3.4 銻銫光電陰極
6.3.5 雙鹼與多鹼銻化物光電陰極
6.3.6 紫外光電陰極
6.4 負電子親和勢（NEA）光電陰極
6.4.1 NEA光電陰極的工作原理
6.4.2 NEA光電陰極的表面模型
6.4.3 NEA光電陰極的量子效率
6.4.4 NEA光電陰極的材料工藝
6.4.5 NEA光電陰極的研究現狀
第7章 次級電子發射
7.1 次級電子發射現象
7.1.1 金屬的次級電子發射
7.1.2 半導體、絕緣體的次級電子發射
7.2 次級電子發射的理論
7.2.1 次級電子發射的物理過程
7.2.2 次級電子發射係數的定量計算
7.2.3 次級電子的能量分布
7.3 次級電子發射係數的測量
7.3.1 金屬次級電子發射係數的測量
7.3.2 絕緣體和半導體次級電子發射係數的測量
7.4 實用次級電子發射體
7.4.1 次級電子發射體的套用概述
7.4.2 實用次級發射體
附錄 常用基本物理常數
習題
4.3.3 銥鑭陰極
第5章 場致電子發射
5.1 金屬場致發射理論
5.1.1 經典理論的矛盾
5.1.2 量子理論的定性說明
5.1.3 金屬場致電子發射方程
5.1.4 金屬場致發射的實驗研究
5.2 半導體的外場致發射
5.2.1 半導體的外場致發射理論
5.2.2 半導體場致電子發射方程
5.3 內場致發射
5.3.1 介質薄膜的內場致發射
5.3.2 反向偏壓pn結的電子發射
5.3.3 負電子親和勢內場致發射
5.4 場致發射陰極的材料和工藝
5.4.1 場致電子發射的性能參數及材料選擇
5.4.2 場致發射陰極的結構和工藝
5.4.3 新型場致發射材料
5.5 場致發射陰極的套用
5.5.1 顯微技術
5.5.2 微波真空電子器件
5.5.3 爆發式電子發射
5.5.4 場發射顯示器
5.5.5 場發射光源
5.5.6 感測技術
第6章 光電子發射
6.1 金屬的光電子發射
6.1.1 金屬光電子發射的規律
6.1.2 金屬光電子發射的理論
6.2 半導體的光電子發射
6.2.1 半導體光電子發射的物理過程
6.2.2 半導體光電陰極的量子效率
6.2.3 獲得高量子產額光電陰極的措施
6.2.4 半導體缺陷能級對光電發射的影響
6.3 實用光電陰極
6.3.1 光電陰極的主要參數和材料選擇
6.3.2 實用光電陰極概述
6.3.3 銀氧銫光電陰極
6.3.4 銻銫光電陰極
6.3.5 雙鹼與多鹼銻化物光電陰極
6.3.6 紫外光電陰極
6.4 負電子親和勢（NEA）光電陰極
6.4.1 NEA光電陰極的工作原理
6.4.2 NEA光電陰極的表面模型
6.4.3 NEA光電陰極的量子效率
6.4.4 NEA光電陰極的材料工藝
6.4.5 NEA光電陰極的研究現狀
第7章 次級電子發射
7.1 次級電子發射現象
7.1.1 金屬的次級電子發射
7.1.2 半導體、絕緣體的次級電子發射
7.2 次級電子發射的理論
7.2.1 次級電子發射的物理過程
7.2.2 次級電子發射係數的定量計算
7.2.3 次級電子的能量分布
7.3 次級電子發射係數的測量
7.3.1 金屬次級電子發射係數的測量
7.3.2 絕緣體和半導體次級電子發射係數的測量
7.4 實用次級電子發射體
7.4.1 次級電子發射體的套用概述
7.4.2 實用次級發射體
附錄 常用基本物理常數
習題
