鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用於高能雷射武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的雷射與不...
對濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能雷射轟擊靶材,並使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,並且最終沉積在基片表面,經歷成膜過程,最終形成薄膜。濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發鍍膜的不同點在於濺射速率將成為主要參數之...
鍍膜玻璃用靶材 《鍍膜玻璃用靶材》是2014年3月1日實施的一項行業標準。起草單位 中國建築玻璃與工業玻璃協會、上海賀利氏工業技術材料有限公司等。起草人 溫艷玲、張佰恆等。
金屬濺射鍍膜靶材,合金濺射鍍膜靶材,陶瓷濺射鍍膜靶材,硼化物陶瓷濺射靶材,碳化物陶瓷濺射靶材,氟化物陶瓷濺射靶材 ,氮化物陶瓷濺射靶材 ,氧化物陶瓷靶材,硒化物陶瓷濺射靶材 ,矽化物陶瓷濺射靶材 ,硫化物陶瓷濺射靶材 ,碲化物陶瓷濺射靶材...
濺射鍍膜技術是用離子轟擊靶材表面，把靶材的原子被擊出的現象稱為濺射。濺射產生的原子沉積在基體表面成膜稱為濺射鍍膜。通常是利用氣體放電產生氣體電離，其正離子在電場作用下高速轟擊陰極靶體，擊出陰極靶體原子或分子，飛向被鍍基體...
對濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能雷射轟擊靶材，並使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，並且最終沉積在基片表面，經歷成膜過程，最終形成薄膜。濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發鍍膜的不同點在於濺射速率將成為主要...
鍍膜材料一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來,並且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。中文名 鍍膜材料 材料組成 氧化物、氟化物等 ...
貴州創建數碼鍍膜靶材科技有限公司於2016年05月13日成立。法定代表人曾格刷,公司經營範圍包括:法律、法規、國務院決定規定禁止的不得經營;法律、法規、國務院決定規定應當許可(審批)的,經審批機關批准後憑許可(審批)檔案經營;法律、法規、...
中文名 金屬靶材 含義 高速荷能粒子轟擊的目標材料 目錄 1 材料介紹 2 鎢鈦合金 3 W-Ti靶材 4 套用 5 發展前景 材料介紹 編輯 簡單說的話,例如:蒸發磁控濺射鍍膜是加熱蒸發鍍膜...鋁膜等。更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹...
雙室四靶材磁控濺射鍍膜系統 雙室四靶材磁控濺射鍍膜系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2019年3月19日啟用。技術指標 MSP-3220。主要功能 用於在真空條件下生長金屬氧化物和氮化物等新一代半導體材料薄膜。
基片台和磁控靶110～130mm距離可調，並有調位距離指示；三套靶電動擋板，每個靶前面配有一套靶擋板，電動控制可遮擋三個工件位置；靶在下，基片在上，向上濺射成膜；RF、DC兼容，靶內有水冷；靶材2英寸；（留有一組蒸發安裝法蘭）...
鋁靶材是用於真空鍍膜行業濺射靶材中的一種,是高純鋁經過系列加工後的產品,具有特定的尺寸和形狀高純鋁材料,安裝在真空鍍膜機上,濺射成膜。中文名 鋁靶材 外文名 Aluminum Target 用途 真空濺射鍍膜 產地 中國...
濺射靶材 （純度：99.9%-99.999%）1.金屬靶材：1. 金屬靶材：鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁矽...
磁控濺射鍍膜magneto-controlled sputter coating是指:是將塗層材料做為靶陰極，利用氬離子轟擊靶材，產生陰極濺射，把靶材原子濺射到工件上形成沉積層的一種鍍膜技術，塗層材料一直保持固態，不形成熔池。
需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。並且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對於濺射...
2011中國國際真空鍍膜技術及靶材展覽會，展覽時間是2011年4月7日-9日，展覽地點是上海國際展覽中心，由中國機械工業聯合會支持。展會信息 承辦單位：上海中壹展覽有限公司 主辦單位：中國表面工程協會 上海時空展覽服務有限公司 展會介紹 ◆...
靶材及鍍膜廣泛套用於電子、機械、半導體、太陽能、航空航天、造船、國防、汽車、機車、五金製品、家電、光學、表面工程等各個行業。隨著表面材料技術的飛速發展，世界對靶材及鍍膜產品的需求規模日益強盛。快速增長的市場，離不開高品質的...
法定代表人楊小崗,公司經營範圍包括:有色金屬複合鍍膜材料、鍍膜濺射靶材、鍍膜蒸發材料、鋯靶、鎳靶、鋁靶、銅靶、鈦靶、鉻靶、鎢鉬靶材及稀貴金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材的研發、生產、銷售;稀貴金屬塗層材料、陰極板、陽極板的...
JC/T 2206-2014，《熱致紅外可調鍍膜玻璃》，2014年第6號(總第174號)中國行業標準備案公告 JC/T 2201-2013，《鍍膜玻璃用靶材》，2013年第12號(總第168號)中國行業標準備案公告 JC/T 2168-2013，《自潔淨鍍膜玻璃》，2013年第7...
真空鍍膜倉是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2014年2月20日啟用。技術指標 超高真空倉3X10^-8Pa,真空倉10^-6Pa； 旋轉樣品加熱台最高溫度：800攝氏度 旋轉靶台； 可安裝四塊2英寸靶材。主要功能 提供高真空和可控...
廣泛用於導電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學玻璃、離子鍍膜等行業，適用所有平面鍍膜及旋轉鍍膜系統。鉬靶 密度10.2克/立方厘米。熔點2610℃。沸點5560℃。鉬靶材純度：99.9% ，99.99% 規格：圓形靶，板靶，旋轉靶 ...
磁控濺射鍍膜系統 磁控濺射鍍膜系統是一種用於電子與通信技術領域的工藝試驗儀器，於2016年06月29日啟用。技術指標 超高真空1E-6Pa，四寸濺射靶材，可以共同濺射。主要功能 可以濺射Al、Ti、PdAu的金屬薄膜。
東莞泰岳光學鍍膜材料有限公司於2014年10月17日成立。法定代表人宮秀明,公司經營範圍包括:生產、加工、銷售:光學鍍膜材料、光學鍍膜耗材、防水材料、金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材、鍍膜機配件;鍍膜機維護;貨物或技術進出口(國家禁止或涉及...
2、有了高純度銅錠作為原材料，對原材料進行鍛造、軋制、熱處理等，使銅錠內晶粒變細小、緻密度增加以滿足濺射所需銅靶材的要求。3、對變形處理後的高純度銅材料進行機械加工，銅靶材加工要求精度高、表面質量高，加工成真空鍍膜機所需...
濺射鍍膜系統是一種用於工程與技術科學基礎學科領域的分析儀器，於2014年12月22日啟用。技術指標 直流功率：2kW 射頻功率：600W 晶片尺寸：最大 6 英寸 真空度：10-7 Torr 靶材： Ti、Au、Pt、Al、Ag、Nb、Al2O3、SiO2等 典型...
(法律、行政法規、國務院決定規定在登記前須經批准的項目除外,涉及行政許可的,須取得行政許可後方可經營)^濺射靶材、鍍膜材料、金屬材料、石墨製品的生產與銷售。 合作夥伴 報錯 查看更多
納能鍍膜丹陽有限公司 納能鍍膜丹陽有限公司於2019年07月01日成立。法定代表人刁詩如，公司經營範圍包括：真空鍍膜工藝技術、磁控濺射鍍膜靶材的研發，真空鍍膜機、納米隔熱節能薄膜、紅外與光學薄膜的研發、生產和銷售等。
物理氣相沉積技術具有膜/基結合力好、薄膜均勻緻密、薄膜厚度可控性好、套用的靶材廣泛、濺射範圍寬、可沉積厚膜、可製取成分穩定的合金膜和重複性好等優點。同時，物理氣相沉積技術由於其工藝處理溫度可控制在500℃以下，因此可作為最終的...
磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，並以高能量轟擊靶表面，使靶材發生濺射。在濺射粒子中，中性的...