鉬電極磁控濺射設備

鉬電極磁控濺射設備是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2013年12月20日啟用。

基本介紹

• 中文名：鉬電極磁控濺射設備
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2013年12月20日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

1.真空室本底真空 ≤5×10-5Pa. 2.濺射室電阻絲加熱溫度 濺射室中襯底溫度為200℃。 3.抽氣速率 從大氣狀態開始抽氣在30分鐘內，系統真空度≤9×10-4Pa.。

主要功能

該設備能在低壓的條件下生長沉積高緻密性Mo薄膜。