遠紅外成像儀

遠紅外成像儀是一種用於物理學領域的分析儀器，於2003年3月4日啟用。

基本介紹

• 中文名：遠紅外成像儀
• 產地：美國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2003年3月4日
• 所屬類別：分析儀器 > 熱分析儀器 > 熱成像儀

技術指標

1.FOV視場(寬X高)/最小焦距：20°X15°內置/0.3m；2.IFOV空間解析度1.1mrad；3.熱靈敏度(NETD):＜0.03℃(30℃時)；4.探測器類型：砷化鎵(GaAs),QWIP,320X240像素焦平面探測器；5.波長範圍：8-9μm；6.測溫範圍：-40℃—+500℃，可通過濾片擴展到2000℃；7.精度：±2%(讀數範圍)或±2℃。

主要功能

廣泛套用在無損檢測評估、研究與發展和產品設計的紅外溫度測量以及熱分析。適合要求精確測溫的套用領域。