軟光刻（SoftLithography），又稱軟刻蝕，是一種套用於製造與微製造的基礎技術，其利用高分子高彈體作為掩膜、印章或者模板來製造納米尺度的結構。
基本介紹
- 中文名：軟光刻；軟刻蝕
- 外文名：Soft Lithography
- 所屬學科：化學
- 別稱：軟刻蝕
軟光刻是指各種使用軟印模來進行圖形光刻的工藝技術合集，這些工藝技術包括微接觸印刷（μCP）、納米壓印光刻（NIL）、模塑成型（REM）、微轉移成型（μTM）、毛細管微成型（MIMIC）、以及溶劑輔助微成型（SAMIM）等。
REM—複製模塑：
REM這種技術通過利用變形PDMS模具的復型成型製造複雜表面，即允許以受控方式（通過機械壓縮、彎曲、拉伸或這些變形的組合）改變模具表面特徵的大小和形狀，並從平面上簡單、規則的結構生成複雜的結構。
μTM—微轉移模塑：
微轉移模塑(μTM)是利用PDMS彈性模具，將液態的高分子預聚物塗在模具表面使之填滿模具，除去多餘的液體後將模具蓋在基底上，利用輻射或加熱的方法激發高分子聚合固化。 再移去模具就可以在基底上留下相應的微結構。和其他方法相比，μTM最大的優勢是可以在複雜的圖形結構上構建多層微結構，可以在非平面上製造微結構。
毛細微模塑(MIMIC)：
毛細微模塑是另外一種可以在平面或曲面上形成複雜微觀結構的非光刻方法。
溶劑輔助微模塑(SAMIM)：
溶劑輔助微模塑是一種允許在聚合物基板表面製造圖案和準三維微結構的技術。
軟光刻技術使得納米尺度三維結構的製造稱為可能。
