《超短超強雷射與薄膜靶的相互作用及超快強X射線源》是依託中國科學院上海光學精密機械研究所，由李儒新擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：超短超強雷射與薄膜靶的相互作用及超快強X射線源
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：李儒新
- 依託單位：中國科學院上海光學精密機械研究所
- 批准號：19974058
- 申請代碼：A2202
- 負責人職稱：研究員
- 研究期限：2000-01-01 至 2002-12-31
- 支持經費：14.5（萬元）
項目摘要
通過理論和實驗研究，弄清超短超強雷射在遠高於臨界密度的甚高密度電漿中傳播時，相對性效應，有質動力打孔以及快速電離產生的強靜磁場引起的反常傳播模式等機制各自發生作用的參數空間；發展基於超短超強雷射與薄膜靶相互作用的超快超強Ｘ射線源和超熱電子源。促進Ｘ射線輻射源，超短超強雷射脈衝整形，雷射核聚變快點火等高技術領域的發展。
