《超大規模集成電子學 : 微結構科學·第3冊》是科學出版社出版的圖書，作者是楊沁清。
基本介紹
- 中文名：超大規模集成電子學 : 微結構科學·第3冊
- 作者：楊沁清
- 出版時間：1987年8月
- 出版社：科學出版社
- 統一書號：15031850
內容簡介,圖書目錄,
內容簡介
本書是《超大規模集成電子學微結構科學》的第三冊．本冊集中介紹了積體電路工藝中精細圖形的成形和轉換技術．全書共六章，前五章分別闡述了普通紫外光、電子束、X線和離子束光刻及等離子刻蝕方面的基本內容和進展，還介紹了精細圖形的測量問題；最後一章介紹了精細粒子情況下的材料、物理和化學問題．
本書可供從事大規模和超大規模積體電路研製和生產的研究人員、工程技術人員及大專院校有關專業師生、研究生參考．
圖書目錄
- 目錄
- 第一章 MOS型大規模積體電路的製造技術
- 第二章 光學光刻原理
- 第三章 亞微米光刻的解析度極限
- 第四章 製造VLSI器件的乾法工藝
- 第五章 掩模版和矽片上線寬的光學測量
- 第六章 小尺寸下的材料學、化學和物理學問題
