《超大積體電路技術 : 工藝評價》是1986年科學出版社出版的圖書，作者是(日)西澤潤一。
基本介紹
- 中文名：超大積體電路技術 : 工藝評價
- 作者：(日)西澤潤一
- 譯者：潘桂堂、石忠誠
- 出版時間：1986年5月
- 出版社：科學出版社
- 書號：15031719
內容簡介,圖書目錄,
內容簡介
該書以半導體積體電路製作工藝的監測、檢查及反饋為主要內容，深入探討了工藝技術與物理化學的聯繫．全書共十一章，分別介紹了積體電路生產中的評價技術和控制方法、套用氣相生長進行器件製作的工藝過程中控制和評價，以及套用最新的表面研究方法進行的工藝評價．同時，還介紹了乾法工藝的監控法、用測試圖形進行工藝檢查及大規模積體電路的工藝線內檢查及反饋．書後附有一篇特邀報告，介紹了反應性離子腐蝕中的表面損傷問題．
該書可供從事半導體積體電路研製、生產的科技人員閱讀參考，也可作為大專院校有關專業師生的教學參考書．
圖書目錄
譯序
目錄
第一章 積體電路中的評價技術
第二章 積體電路生產中的精密控制
第三章 矽氣相外延生長及摻雜的工藝過程中控制
第四章 矽氣相生長中的工藝過程中評價
第五章 CVD的評價技術
第六章 反射式高能電子衍射與半導體表面
第七章 利用二次離子質譜法評價工藝
第八章 電漿刻蝕及其工藝過程中控制
第九章 閃頻掃描電鏡在積體電路失效分析中的套用
第十章 用測試圖形進行工藝檢驗
第十一章 積體電路、大規模積體電路的工藝線內檢驗和反饋
特邀報告 反應性離子腐蝕中矽的表面損傷
參考文獻
