《複雜三維微/納光學陣列元件的電化學刻蝕加工方法》是依託廈門大學，由湯儆擔任項目負責人的青年科學基金項目。
基本介紹
- 中文名：複雜三維微/納光學陣列元件的電化學刻蝕加工方法
- 項目類別：青年科學基金項目
- 項目負責人：湯儆
- 依託單位：廈門大學
- 批准號：20503024
- 申請代碼：B0205
- 負責人職稱：教授
- 研究期限：2006-01-01 至 2008-12-31
- 支持經費：28（萬元）
項目摘要
本項目擬利用約束刻蝕劑層技術（CELT）開展石英材料（SiO2 ）表面複雜三維微/納光學陣列元件的刻蝕加工研究，一方面探索石英刻蝕過程中的基本問題，如捕捉劑的篩選、刻蝕劑與石英反應機制、刻蝕劑層的空間分布等化學問題；另一方面發揮CELT技術適合絕緣材料複雜三維結構刻蝕的優勢，力圖以微/納光學陣列元件（如微透鏡陣列、微稜鏡陣列）的製作為切入點，將其引向新的更為重要的套用領域。本項目可以進一步推進CELT技術的相關理論研究，有助於將該技術推廣到現有電化學微/納加工方法難以加工的新材料，從而滿足微/納系統發展中需要在極小尺度上加工日益多樣的新材料的要求。
